[实用新型]一种适用于小尺寸基片的光刻用真空基片夹具

说明书

本实用新型公开了一种适用于小尺寸基片的光刻用真空基片夹具，涉及半导体制备技术领域，该真空基片夹具包括真空载物台；载物台内设有N组真空吸附结构；每个真空吸附结构下端连接有抽真空结构；每组真空吸附结构包括沿载物台厚度方向设置的M个第一真空孔，第一真空孔为通孔；相邻的第一真空孔之间通过设在载物台内部的真空槽相连通；还包括设在载物台上可拆卸的辅助装置；该辅助装置上设有与第一真空孔连通的第二真空孔；基片覆盖在第二真空孔之上；辅助装置上端与基片紧密贴合，辅助装置下端与载物台紧密贴合。该夹具不仅便于调整基片位置、而且能够一机多用，提高夹具利用率、降低成本。

技术领域

本实用新型涉及半导体制备技术领域，特别地，涉及到一种适用于小尺寸基片的光刻用真空基片夹具。

背景技术

在半导体制造中，芯片的制作一般都要用到采用光刻技术；用于这些步骤的图形“底片”称为掩膜板(也称作光刻板)，其作用是：在基片上选定的区域中对一个不透明的图形模板遮盖，继而下面的腐蚀或扩散将只影响选定的区域以外的区域。

但是目前的实验和生产中，一旦遇到小尺寸如直径2寸以下的基片，掩膜版的位置又不能调整时，就需要通过调整夹具来调整基片的位置，或者按照需求定制特殊的基片夹具。但定制的基片夹具通常是一对一的设计(即一种夹具对应一种形状或尺寸的基片)，不同的基片要制作多种夹具、耗时耗财、并且利用率不高；而且通常的基片夹具均为机械硬性夹持方法，存在损伤基片的可能性。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术中存在的上述技术问题，提供了一种结构简单合理的适用于小尺寸基片的光刻用真空基片夹具。该夹具不仅便于调整基片位置、而且能够一机多用，提高夹具利用率、降低成本。

本实用新型为解决公知技术中存在的技术问题所采取的技术方案是：

一种适用于小尺寸基片的光刻用真空基片夹具，该真空基片夹具包括真空载物台；所述载物台内设有N组真空吸附结构；每个所述真空吸附结构下端连接有抽真空结构；每组所述真空吸附结构包括沿所述载物台厚度方向设置的M个第一真空孔，所述第一真空孔为通孔；相邻的第一真空孔之间通过设在载物台内部的真空槽相连通；

还包括设在载物台上可拆卸的辅助装置；该辅助装置上设有与第一真空孔连通的第二真空孔；基片覆盖在第二真空孔之上；辅助装置上端与基片紧密贴合，辅助装置下端与载物台紧密贴合。

进一步，所述辅助装置包括设在各个真空吸附结构一侧的竖直转轴和与转轴转动配合的圆形遮片；所述第二真空孔沿厚度方向设在所述遮片上；所述遮片的面积大于所述基片的面积。

进一步，每个遮片上设有一个第二真空孔。

进一步，所有的第一真空孔直径相等。

进一步，所述遮片与所述转轴螺纹连接；所述转轴上还设有与转轴配合的拧紧螺母。

进一步，所述抽真空结构包括真空吸盘和设在真空吸盘根部的真空管；所述真空吸盘与对应的真空吸附结构连通；真空吸盘覆盖对应的真空吸附结构底部；N个真空管与设在末端的一个共同的真空总开关连接。

进一步，每个真空管上设有一个控制该管工作状态的真空分开关。

进一步，N>1，和/或，M>1。

进一步，M＝3；3个所述第一真空孔呈等边三角形分布，所述转轴设在该等边三角形的中心。

更进一步，N组真空吸附结构在载物台上的投影面积大小不等；所述遮片数量为多个且大小也不相等。

本实用新型具有的优点和积极效果是：