[实用新型]一种捕集器及装有捕集器的排气系统

说明书

本实用新型涉及干法蚀刻设备领域，公开了一种捕集器及装有捕集器的排气系统。装有捕集器的排气系统包括依次连接的分子泵、捕集器、真空配管、干泵、洗涤塔；捕集器包括筒体、第一盖板、第二盖板、进气配管和出气配管；第一盖板和第二盖板封闭筒体内腔以形成密闭的捕集室；筒体的筒壁中设有包裹捕集室的冷腔；进气配管出气端穿过第一盖板伸入到捕集室内，出气配管进气端穿过第二盖板伸入到捕集室内，进气配管出气端的端口平面过出气配管进气端的端口平面，以使从进气配管流入的排气、在捕集室内呈Z字型流动、进而再从出气配管流出。通过上述方式，本实用新型能够有效的避免干泵出现卡死或转子磨损的情况，延长干泵使用寿命，降低干泵维护成本。

技术领域

本实用新型涉及干法蚀刻设备领域，特别是涉及一种捕集器及装有捕集器的排气系统。

背景技术

在真空干法蚀刻设备领域，通常采用光刻胶作为掩膜。光刻胶在蚀刻过程中会随被蚀刻物质一起蚀刻下来，再通过排气系统处理排出。现有的真空干法蚀刻设备，其排气系统是在蚀刻腔体7部分设置一个分子泵1，分子泵1的吸气口采用自动调压阀门11与蚀刻腔体7相连，分子泵1的出气口通过真空阀门12与真空配管2的进气口相连，真空配管2的出气口设置有一个干泵3，干泵3用于分子泵1的排气，干泵3还与除害装置连通，如图1所示。在干泵3的抽气作用下，蚀刻下来的光刻胶会随着蚀刻物质从蚀刻腔体7到达分子泵1，然后通过分子泵1、真空配管2，到达干泵3，干泵3再排出到除害装置(洗涤塔5)，进行无害化处理后，达到排放标准的气体排出到空气中。但是光刻胶的粘性比较大，光刻胶粒子在通过分子泵1、到达干泵3时，由于温度的不断降低，光刻胶和蚀刻生成物的挥发性减弱降低，容易在管道和干泵3内凝结聚集；干泵3的转子间间距很小，凝结的光刻胶和生成物容易堵塞转子间的间距，造成干泵3卡死或转子磨损。为了避免这种现象，可以频繁性的清洗和保养转子，但该维护方式成本较高，恢复周期比较长，且较为繁琐。

实用新型内容

本实用新型主要解决的技术问题是提供一种捕集器及装有捕集器的排气系统，装有捕集器的排气系统能够有效的避免干泵出现卡死或转子磨损的情况，延长干泵的使用寿命和保养周期，大幅度降低了干泵的维护成本。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的一个技术方案是：提供一种捕集器，包括：筒体、第一盖板、第二盖板、进气配管和出气配管；所述第一盖板和所述第二盖板分别可拆卸的固定安装在所述筒体的两端，所述第一盖板和所述第二盖板封闭所述筒体的内腔、以形成密闭的捕集室；所述筒体的筒壁中设有包裹所述捕集室以对捕集室进行降温的冷腔，所述冷腔内具有循环流动的冷却水或冷却液；所述进气配管固定安装在所述第一盖板上，所述进气配管的进气端为所述捕集器的进气口，所述进气配管的出气端穿过所述第一盖板伸入到所述捕集室内；所述出气配管固定安装在所述第二盖板上，所述出气配管的进气端穿过所述第二盖板伸入到所述捕集室内，所述出气配管的出气端为所述捕集器的出气口；所述进气配管出气端的端口平面过所述出气配管进气端的端口平面，以使从所述进气配管流入的排气、在所述捕集室内呈Z字型流动、进而再从所述出气配管流出。

优选的，所述筒体包括内筒和固定套设在所述内筒上的外筒，所述内筒和所述外筒之间形成的密闭空腔为所述冷腔；所述外筒上设置有与所述冷腔相通的进水口和出水口。

优选的，所述进水口和所述出水口分别位于所述外筒的两侧及两端，即进水口和出水口呈对角线相对。

优选的，所述第一盖板和所述第二盖板均通过螺丝固定安装在所述筒体上；所述第一盖板与所述筒体的端部之间、以及所述第二盖板与所述筒体的端部之间，均设有密封圈。