[实用新型]一种去除隔膜表面杂质的装置有效
| 申请号： | 201920383677.6 | 申请日： | 2019-03-25 |
| 公开（公告）号： | CN209691831U | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 杨山 | 申请（专利权）人： | 惠州锂威电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H01M2/14 | 分类号： | H01M2/14;H01M2/16;B01D49/00 |
| 代理公司： | 12201 天津市北洋有限责任专利代理事务所 | 代理人： | 潘俊达<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
| 地址： | 523000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 本实用新型 隔膜表面 腔体 磁性材料层 隔离膜表面 安全性能 电芯短路 负压腔体 隔膜技术 腔体连通 强磁材料 微量磁性 影响电池 真空管道 可循环 吸附孔 运行时 拆解 隔膜 去除 粉尘 环保 | ||
1.一种去除隔膜表面杂质的装置，其特征在于：包括腔体以及与所述腔体连通的真空管道，所述腔体的至少一面设置有磁性材料层以及若干吸附孔。
2.根据权利要求1所述的去除隔膜表面杂质的装置，其特征在于：所述真空管道设置有两根，两根所述真空管道分别设置于所述腔体相对的两侧。
3.根据权利要求1所述的去除隔膜表面杂质的装置，其特征在于：当对腔体抽真空时，所述腔体内部的压力为-10~-30kpa。
4.根据权利要求1所述的去除隔膜表面杂质的装置，其特征在于：所述磁性材料层与隔膜平行设置，所述磁性材料层与隔膜之间的间隙为2~5mm。
5.根据权利要求1所述的去除隔膜表面杂质的装置，其特征在于：所述磁性材料层的磁性强度为3000GS~8000GS。
6.根据权利要求1所述的去除隔膜表面杂质的装置，其特征在于：所述磁性材料层的厚度为5~10mm。
7.根据权利要求1所述的去除隔膜表面杂质的装置，其特征在于：所述磁性材料层的宽度L大于或等于隔膜宽度。
8.根据权利要求1所述的去除隔膜表面杂质的装置，其特征在于：若干所述吸附孔均匀分布在所述磁性材料层的两侧。
9.根据权利要求1所述的去除隔膜表面杂质的装置，其特征在于：若干所述吸附孔的直径为0.5~2mm。
10.根据权利要求1所述的去除隔膜表面杂质的装置，其特征在于：所述腔体的材质为非金属材质。
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