[实用新型]一种超纯氩纯化装置有效
申请号: | 201920309619.9 | 申请日: | 2019-03-12 |
公开(公告)号: | CN210251544U | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 金向华;孙猛 | 申请(专利权)人: | 苏州金宏气体股份有限公司 |
主分类号: | B01D46/00 | 分类号: | B01D46/00;B01D53/04;B01D53/18;C01B23/00 |
代理公司: | 苏州翔远专利代理事务所(普通合伙) 32251 | 代理人: | 陆金星;姚惠菱 |
地址: | 215152 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 超纯氩 纯化 装置 | ||
本实用新型公开了一种超纯氩纯化装置,包括两个原料气供给系统、纯化系统以及两个产品气充装系统,两个原料气供给系统并联连接至纯化系统,每个原料气供给系统包括设于同一集装格中的若干储气瓶,两个产品气充装系统并联连接至纯化系统,其中一个产品充装系统包括若干充气瓶A,另一个产品充装系统包括设于同一集装格中的若干充气瓶B,纯化系统包括凝胶过滤单元和碱性洗涤单元。本实用新型通过设置凝胶过滤单元,可以脱除原料气中的一氧化碳,通过设置碱性洗涤单元,可以洗去原料气中的二氧化碳。
技术领域
本实用新型涉及氩气提纯领域,具体涉及一种超纯氩纯化装置。
背景技术
超高纯的氩气是LED、大规模集成电路等半导体产业的重要原料,主要作为半导体生产过程中的载气、保护气,其纯度对产品的质量和性能至关重要。随着半导体技术的飞速发展,对气体纯度的要求越来越高(已达8N 以上)。而从钢瓶、储罐等一次气源提供的气体只有4~5N,无法满足该需求,而必须采取终端纯化。目前国内LED 生产企业使用的终端纯化器基本是国外产品,成本昂贵。 氩气的主要来源为空分,其中所含的主要杂质是CO、CO2, 如何对氩气进行低成本纯化是本领域亟待解决的问题。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种超纯氩纯化装置,在有效去除氩气中的杂质的同时,降低成本。
为达到上述目的,本实用新型采用的技术方案是:一种超纯氩纯化装置,包括两个原料气供给系统、纯化系统以及两个产品气充装系统,所述两个原料气供给系统并联连接至所述纯化系统,每个所述原料气供给系统包括设于同一集装格中的若干储气瓶,所述两个产品气充装系统并联连接至所述纯化系统,其中所述产品充装系统包括若干充气瓶A,另一个所述产品充装系统包括设于同一集装格中的若干充气瓶B,所述纯化系统包括凝胶过滤单元和碱性洗涤单元,所述凝胶过滤单元包括一级或串联设置的至少两级过滤器,所述碱性洗涤单元包括一级或串联设置的至少两级容置有碱性洗涤液的第一洗涤塔,其中,第一级过滤器的入口与所述若干储气瓶连通,其余过滤器的入口与其前一级过滤器的出口连通,第一级第一洗涤塔的入口与最后一级过滤器的出口连通,其余第一洗涤塔的入口与其前一级第一洗涤塔的出口连通,最后一级第一洗涤塔的出口与所述若干充气瓶A或所述若干充气瓶B连通。
上述技术方案中,所述凝胶过滤单元包括两级过滤器。
上述技术方案中,所述碱性洗涤单元包括三级第一洗涤塔。
上述技术方案中,所述容置有碱性洗涤液的第一洗涤塔为容置有氨水的第一洗涤塔或容置有氢氧化钠的第一洗涤塔或容置有氢氧化钙的第一洗涤塔。
上述技术方案中,所述第一洗涤塔为立式,其入口位于其轴向中部,其出口位于其轴向顶部。
上述技术方案中,所述纯化系统还包括中性洗涤单元,所述中性洗涤单元包括一级或串联设置的至少两级第二洗涤塔,第一级第二洗涤塔的入口与最后一级第一洗涤塔的出口连通,其余第二洗涤塔的入口与其前一级第二洗涤塔的出口连通,最后一级第二洗涤塔的出口与所述若干充气瓶连通。
上述技术方案中,所述中性洗涤单元包括一级所述第二洗涤塔。
上述技术方案中,所述第二洗涤塔为立式,其入口位于其轴向中部,其出口位于其轴向顶部。
上述技术方案中,所述凝胶过滤单元与所述碱性洗涤单元之间还设有缓冲罐。
上述技术方案中,相邻的所述第一洗涤塔之间还设有增压机。
由于上述技术方案运用,本实用新型与现有技术相比具有下列优点:
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