[实用新型]用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机

说明书

本实用新型提供一种用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机。其创新在于：直列式涂布机的输送系统用于将基板保持架在垂直于其轴的方向上同步和逐步地从室移动到室中，此外，在每个处理室中，输送系统沿其旋转轴将基板保持架移动到工作区域；处理室具有朝向大气的附加容积，其尺寸由基板保持架的尺寸确定，并足以将技术装置和监测仪器放置在其中，并且基板保持架的旋转运动馈通装置具有与基板保持架的中心轴耦合的装置。在其第一变体中，基板保持架悬挂在其上的输送系统的支撑框架可以配置为在水平和垂直位置中从室移动到室，而在其第二变体中，支撑框架配置为仅在垂直位置中移动，并且直列式涂布机另外包括基板保持架返回室。

技术领域

本实用新型提供一种在大规模生产中用于表面处理的技术设备，特别是用于具有特定光学、电学和其他特性的薄膜沉积的技术真空设备。

背景技术

本领域已知将薄膜沉积到待处理物品(基板)上的各种单元。

因此，例如，于1989年7月25日公布的专利US No.4851095描述了一种用于基板涂层的间歇鼓式装置，其包括圆柱形基板保持架，基板安装在成形表面上。已知装置中基板涂层的均匀性是通过借助于线性型技术装置在基板工作区的鼓旋转来提供的。

此外，根据2008年12月10日公布的实用新型专利RU No.78785，它还被称为技术自动化单元，其中，对于将薄膜沉积在基板上，后者安装在支撑架上，所述支撑架沿技术装置逐渐移动。

然而，本领域已知的用于沉积薄膜涂层的所有单元都具有共同的严重缺点，即：当用在批量生产时多层光学结构的沉积质量低；将几个层同时施加在基板两侧上时单元不适用；对不同操作模式的技术装置的使用存在严重限制。

所有这些缺点都是由于上述设备样本设计的概念局限性造成的。

用于具有特定光学、电学和其他特性的薄膜沉积的大规模生产直列式涂布机最接近如2014年2月20日公布的专利RU No.2 507 308中所述的发明所要求保护的物体的基本特征。

在现有技术中，基板放置在可旋转的圆柱形基板保持架上，所述基板保持架以相同的恒定线速度和旋转速度沿直列式涂布机的工作区域依次移动。在这种情况下，以基板保持架表面的每个点在通过工作区域时至少进行两次完整的旋转的方式来选择基板保持架的线性和旋转速度的比。

直列式涂布机包括锁、缓冲室、具有技术装置的至少一个处理室、基板保持架和输送系统。每个基板保持架以可旋转圆筒的形式制成，并位于输送系统的托架上，所述输送系统安装用于以恒定线速度连续移动直列式涂布机的室。

然而，现有技术也具有不利的特点，即：不能对基板的两侧同时进行涂层；在直列式涂布机中将薄膜沉积在基板上的过程中技术和技术装置范围的限制；单元的不可接受尺寸(根据必要的处理室数量)和当试图使用直列式涂布机沉积具有数十层和数百层的结构时直列式涂布机的成本。

关于用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机的设计变体的本实用新型的目的是消除所有上述不利特征。

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