[实用新型]用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机

权利要求书

1.用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其包括：

位于所述直列式涂布机相对的两端处的输入负载锁室(1)和输出负载锁室(2)；

具有用于基板(6)表面处理和将薄膜沉积在基板上的处理装置(4)的至少一个处理室(3)；

监测装置；

沿所述直列式涂布机整个长度的直通输送系统(11)，具有以支撑框架(15)形式制成的托架，所述支撑框架用于将可旋转基板保持架(8)从所述输入负载锁室连续移动到所述输出负载锁室中，所述可旋转基板保持架具有成形表面，基板安装在所述成形表面上；

真空门(10)；以及

所述基板保持架(8)的旋转运动馈通装置(20)，所述旋转运动馈通装置设置在处理室(3)中并且包括用于将其与基板保持架(8)的中心轴(21)耦合的耦合装置(22)，所述耦合装置安装在所述基板保持架的旋转轴上并悬臂支撑在所述支撑框架(15)上；

其特征在于，

所述至少一个处理室(3)包括附加容积(17)，所述附加容积(17)的尺寸由所述可旋转基板保持架(8)的尺寸确定，所述附加容积(17)足以安置所述处理装置(4)和所述监测装置；

所述至少一个处理室(3)分成工作区域(16)和移动区域(28)；

其中，所述基板保持架(8)具有开口端和封闭端，并且所述开口端朝向所述工作区域(16)定向，并且其外切直径对应于所述基板保持架(8)的最大外切直径；并且其中，所述直列式涂布机的输送系统(11)适应于同步且逐步地将所述基板保持架沿垂直于所述基板保持架的旋转轴的方向从所述输入负载锁室移动到所述输出负载锁室中，并且其中，所述输送系统适应于将所述基板保持架沿所述基板保持架在每个所述至少一个处理室中的旋转轴移动到所述工作区域。

2.如权利要求1所述的用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其中，所述输送系统(11)的支撑框架(15)配置为能够在水平位置中移动，所述基板保持架(8)的旋转轴垂直定向。

3.如权利要求1所述的用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其中，所述输送系统(11)的支撑框架(15)配置为能够在垂直位置中移动，所述基板保持架(8)的旋转轴水平定向。

4.如权利要求1所述的用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其中，刚性安装在支撑框架(15)上的隔板(19)将所述工作区域与所述移动区域分离。

5.如权利要求1所述的用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其中，所述基板保持架以旋转表面的形式制成。

6.如权利要求1所述的用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其中，所述基板保持架以穹顶、截头圆锥体或圆柱体的形式制成。

7.如权利要求1所述的用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其中，所述基板保持架的成形表面包括用于独立旋转所述基板的装置(23)。

8.如权利要求1所述的用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其中，所述基板保持架的成形表面具有用于基板(6)安装的通孔(7)。

9.如权利要求5所述的用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其中，所述基板保持架(8)以在其成形表面上具有通孔(7)的圆柱体的形式制成，并且其中，所述工作区域包括至少两个处理装置(4)，用于同时将双面膜沉积在所述基板(6)的表面上。

10.如权利要求1所述的用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其中，所述至少一个处理室(3)的工作区域(16)具有提供所述处理装置的气体隔离的元件。

11.如权利要求1所述的用于在真空中沉积薄膜涂层的直列式涂布机，其中，所述基板保持架的表面具有用于所述基板的固定装置(9)。