[实用新型]一种新型结构的石墨框

说明书

本实用新型公开了一种新型结构的石墨框，包括行列排列的实心石墨框凹槽，硅片放置在凹槽上，其特征在于凹槽四周的石墨框横梁上设置横向的通孔，通孔的方向与横梁的长度方向垂直；在通孔的上方设置纵向的孔，通孔和孔呈“丄”状。采取本实用新型的石墨框结构，兼具实心石墨框和空心石墨框的优点：既避免绕镀导致的外观不良、EL不良及效率偏低现象；同时避免吸盘漏吸或碎片导致的频繁暂停，增加设备的产能。

技术领域

本实用新型涉及太阳能电池片制造领域，具体是一种新型结构的石墨框。

背景技术

随着光伏市场竞争的加剧，降低电池片成本及提升电池片的良率变得越来越重要。晶体硅太阳能电池成本组成中，硅成本占60-70％，降低硅片的厚度成为降低成本的主要方向。随着硅片厚度的降低，电池片的隐裂风险会增加，且对设备的工装夹具及自动化要求越来越严格。背钝化工艺技术已经成为目前较为成熟的主流技术，2019年背钝化电池片占到市场一半以上。目前市场上背钝化设备各式各样，其中MAIA机台是最早也是最成熟的背钝化设备。MAIA机台为板式PECVD设备在背面生长出AlOx/SiNx叠层膜，为上镀膜的沉积方式。

MAIA机台硅片的载具为板式的石墨框，目前主流设备的石墨框为空心框，如图1所示；量产过程中薄片隐裂导致的碎片或漏吸片等，会造成空心框少片，由于等离子体沉积技术存在绕镀问题，导致少片位置周围几片背面被镀膜，在后续工艺流程中出现镀膜外观不良，效率偏低及EL问题，严重影响产品的质量。少量设备的石墨框为实心框，如图2所示；少片问题在实心框上不会出现绕镀问题，但由于石墨框刚出机台，整体较热，由于热胀冷缩现象，实心框与硅片间压力与硅片上方大气压存在压力差导致自动化吸盘出现漏吸现象。调整吸力会大幅度增加碎片现象，无论是漏吸或碎片都会导致设备自动化频繁暂停，严重影响设备产能。

实用新型内容

本实用新型针对背景技术中存在的问题，提出了一种新型结构的石墨框。

技术方案：

一种新型结构的石墨框，包括行列排列的实心石墨框凹槽，硅片放置在凹槽上，其特征在于凹槽四周的石墨框横梁上设置横向的通孔，通孔的方向与横梁的长度方向垂直；在通孔的上方设置纵向的孔，通孔和孔呈“丄”状。

优选的，凹槽四周的石墨框横梁上各设置一组通孔和孔。

优选的，所述通孔对应设置在凹槽四周石墨框横梁的中线位置。

具体的，通孔的直径为2mm，孔的直径为2mm。

本实用新型的有益效果

采取本实用新型的石墨框结构，兼具实心石墨框和空心石墨框的优点：既避免绕镀导致的外观不良、EL不良及效率偏低现象；同时避免吸盘漏吸或碎片导致的频繁暂停，增加设备的产能。

附图说明

图1为现有技术中空心石墨框的结构示意图。

图2为现有技术中实心石墨框的结构示意图。

图3为本实用新型提供的新型石墨框的结构示意图。

图4为图3中A处的俯视图。

图5为图3中A处的剖视图。

图6为图3中B处的俯视图。

图7为图3中B处的剖视图。

具体实施方式

下面结合实施例对本实用新型作进一步说明，但本实用新型的保护范围不限于此：

实施例：结合图3-图7，一种新型结构的石墨框，包括行列排列的实心石墨框凹槽2，硅片1放置在凹槽2上，其特征在于凹槽2四周的石墨框横梁3上设置横向的通孔4，通孔4的方向与横梁3的长度方向垂直；在通孔4的上方设置纵向的孔5，通孔4和孔5呈“丄”状。