[实用新型]一种新型结构的石墨框有效
| 申请号： | 201920262174.3 | 申请日： | 2019-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN210104073U | 公开（公告）日： | 2020-02-21 |
| 发明（设计）人： | 徐东升;朱军;马敏杰;杨韦;李慧;马擎天 | 申请（专利权）人： | 环晟光伏（江苏）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458 |
| 代理公司： | 南京天华专利代理有限责任公司 32218 | 代理人： | 刘畅;徐冬涛 |
| 地址： | 214203 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 新型 结构 石墨 | ||
【权利要求书】：
1.一种新型结构的石墨框，包括行列排列的实心石墨框凹槽(2)，硅片(1)放置在凹槽(2)上，其特征在于凹槽(2)四周的石墨框横梁(3)上设置横向的通孔(4)，通孔(4)的方向与横梁(3)的长度方向垂直；在通孔(4)的上方设置纵向的孔(5)，通孔(4)和孔(5)呈“丄”状。
2.根据权利要求1所述的一种新型结构的石墨框，其特征在于凹槽(2)四周的石墨框横梁(3)上各设置一组通孔(4)和孔(5)。
3.根据权利要求2所述的一种新型结构的石墨框，其特征在于所述通孔(4)对应设置在凹槽(2)四周石墨框横梁(3)的中线位置。
4.根据权利要求1所述的一种新型结构的石墨框，其特征在于通孔(4)的直径为2mm，孔(5)的直径为2mm。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
