[实用新型]一种CVD沉积炉装置

权利要求书

1.一种CVD沉积炉装置，其特征在于，包括沉积室(1)、基座(2)和进气组件(3)，所述进气组件(3)与所述沉积室(1)连接，所述进气组件(3)包括：

进气管(32)，所述进气管(32)为空心结构，与所述沉积室(1)外空间相通；

分流球(33)，所述分流球(33)为空心结构，设于所述进气管(32)远离沉积室(1)外空间一端并与所述进气管(32)相通；

至少3个分流管(34)，分设于所述分流球(33)球面，所述分流管(34)为空心结构，一端与所述分流球(33)内腔相通；

至少3个喷嘴(35)，设于所述分流管(34)远离分流球(33)一端，所述喷嘴(35)为空心结构，一端与所述分流管(34)相通，另一端与所述沉积室(1)相通。

2.如权利要求1所述的CVD沉积炉装置，其特征在于，所述沉积室(1)内径为400mm～1000mm，高度为500mm～2000mm，所述进气管(32)内径为50mm～100mm，壁厚为5mm～10mm，所述分流球(33)内径为100mm～300mm，壁厚为5mm～10mm，所述分流管(34)内径为20mm～50mm，长度为20mm～50mm，壁厚为3mm～10mm，所述喷嘴(35)外形呈圆台状，底面为椭圆形或圆形，内径为20mm～50mm，喇叭口朝向远离所述分流管(34)一端，圆台母线与中轴线夹角为20度～40度，圆台高20mm～50mm，壁厚为3mm～10mm。

3.如权利要求1所述的CVD沉积炉装置，其特征在于，所述分流管(34)数目为11以内。

4.如权利要求1所述的CVD沉积炉装置，其特征在于，所述进气管(32)与所述分流球(33)之间为螺纹连接或卡扣连接，所述分流球(33)与所述分流管(34)之间为螺纹连接或卡扣连接，所述分流管(34)与所述喷嘴(35)之间为螺纹连接或卡扣连接。

5.如权利要求1所述的CVD沉积炉装置，其特征在于，所述分流管(34)中轴线与所述分流球(33)球心的距离小于10mm，所述喷嘴(35)中轴线与所述分流球(33)球心的距离小于10mm。

6.如权利要求1所述的CVD沉积炉装置，其特征在于，所述基座(2)位于所述沉积室(1)底部，高度小于20mm。

7.如权利要求1所述的CVD沉积炉装置，其特征在于，所述沉积室(1)采用石墨或炭炭复合材料制成。

8.如权利要求1至7中任一项所述的CVD沉积炉装置，其特征在于，所述进气管(32)连接质量流量测控系统，用于控制进气流量。