[实用新型]一种双管扩散炉

说明书

本实用新型公开一种双管扩散炉，其包括机架、上下两层炉体、石英舟、送料机构、气源柜，上下两层炉体另一端分别连接有排毒箱，上层炉体上方罩设排风罩，炉体内设置连接气源柜的2根出气管，两出气管分别位于石英舟两侧且出气孔分别斜向上和斜向下设置，排毒箱由相嵌套的内外套筒组成，内外套筒之间的夹层与对应炉体连通使炉体内扩散气体进入夹层，内套筒中设置有排风板，排风板上设置有对应石英舟的排风孔，排风板内设置通道分别连通排风孔和相应夹层。该扩散炉内的扩散气体呈现螺旋环绕进气，相较于传统的直吹式进气，能够使炉体内气体分布更均匀，从而使扩散效果更好，同时该扩散炉能够利用排毒箱对硅片进行表面吹风清洁，提升了产品品质。

技术领域

本实用新型涉及电子元器件制造设备领域，尤其涉及一种双管扩散炉。

背景技术

扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、 分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金 及烧结等工艺。扩散炉与其内的石英管相配合，常用于半导体硅片的高温扩散， 进而生产得到芯片。

扩散工艺要求炉体内气场分布均匀，气流稳定，而目前的扩散炉由于设计缺陷，炉体内气流不稳定，气场分布不均匀导致，从而导致扩散质量不均一，降低了硅片的性能。

另外，硅片在进入炉体之前，常会有环境中的灰尘等颗粒物附着在硅片表面，在扩散过程中会影响硅片的扩散质量，最终影响硅片品质。

因此，现有技术有待于进一步发展和进步。

实用新型内容

针对上述技术问题，本实用新型实施例提供了一种双管扩散炉，该双管扩散炉能够实现炉内气流分布均匀，并能实现对硅片表面的自清洁功能。

本实用新型技术方案如下：

一种双管扩散炉，其中，包括机架、设置于机架上的上下两层炉体、用于承载待扩散元件至炉体内的石英舟、用于推送石英舟移动的送料机构、对应上下两层炉体一端设置的用于向炉体内输送扩散气体的气源柜，上下两层炉体另一端分别连接有排毒箱，上层炉体上方罩设排风罩，其中，上下两层炉体内分别设置连接气源柜的出气管，每个炉体内出气管设置为2根，两根出气管位于炉体中石英舟的左右两侧，两出气管上分别设置若干出气孔，其中一出气管上的出气孔对应石英舟方向斜向上设置，另一出气管上的出气孔对应石英舟方向斜向下设置，所述排毒箱由相嵌套的内外两套筒组成，内套筒上设置用于石英舟通过的通道孔，内外套筒之间的夹层与对应炉体连通使炉体内扩散气体进入夹层，内套筒中设置有排风板，排风板上设置有对应石英舟的排风孔，排风板内设置通道分别连通排风孔和相应夹层。

所述的双管扩散炉，其中，上层炉体和下层炉体分别包括石英管和套设于石英管外的加热器，所述加热器通电加热实现对石英管加热。

所述的双管扩散炉，其中，所述送料机构包括用于承载石英舟的承载杆、用于推动承载杆上石英舟移动的推板、以及用于推动推板移动的送料气缸。

所述的双管扩散炉，其中，其中一出气管上的出气孔对应石英舟方向斜向上45度设置，另一出气管上的出气孔对应石英舟方向斜向下45度设置。

所述的双管扩散炉，其中，所述出气管内设置有均风板，所述均风板沿出气管轴线方向倾斜设置，使出气管内分隔成进气区和均风区，出气孔均位于均风区的出气管壁上。

所述的双管扩散炉，其中，所述均风板上设置有若干均风孔，均风板上均风孔的分布密度沿均风板倾斜方向逐渐增大。

所述的双管扩散炉，其中，所述排风板为环绕石英舟的弧形板，排风孔分布于弧形板的内弧面上。

所述的双管扩散炉，其中，所述排毒箱设置出风通道，其中，上层炉体对应的排毒箱的出风通道的出口设置于排风罩中，下层炉体对应的排毒箱的出风通道与上层炉体对应的排毒箱的夹层连通。

有益效果