[实用新型]蒸镀源及蒸镀装置

说明书

本实用新型涉及一种蒸镀源及蒸镀装置。蒸镀源包括：蒸镀源盖板，用于支撑蒸镀源盖板的支撑体；蒸镀源盖板相对于支撑体可旋转设置；其中，蒸镀源盖板包括盖板本体，盖板本体上设有贯穿盖板本体的至少一个贯通槽，且至少一个贯通槽呈螺旋状排布。应用本实用新型技术方案的蒸镀源及蒸镀装置，由于蒸镀材料能够从贯通槽中喷射至待蒸镀基板上，蒸镀过程中，蒸镀源盖板旋转，能够使蒸镀材料在喷射时发生旋转扩散，保证喷射出的蒸镀材料的均匀性，从而有利于改善成膜的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及蒸镀技术领域，特别是涉及一种蒸镀源及蒸镀装置。

背景技术

目前，在制作OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示屏的有机发光层的过程中，利用具有图案的掩膜板掩膜，并通过真空蒸镀方式在待蒸镀基板上形成所需要的图案。

然而，利用传统的蒸镀装置进行蒸镀时，成膜的均匀性不佳，不利于应用。

实用新型内容

基于此，有必要针对如何同时改善成膜的均匀性的问题，提供一种能够改善成膜的均匀性的蒸镀源及蒸镀装置。

一种蒸镀源，包括：蒸镀源盖板，用于支撑所述蒸镀源盖板的支撑体；所述蒸镀源盖板相对于所述支撑体可旋转设置；其中，所述蒸镀源盖板包括盖板本体，所述盖板本体上设有贯穿所述盖板本体的至少一个贯通槽，且所述至少一个贯通槽呈螺旋状排布。

在其中一个实施例中，所述蒸镀源盖板的旋转中心与所述至少一个贯通槽的螺旋排布中心重叠设置，优选地，所述旋转中心与盖板本体中心重叠设置。

在其中一个实施例中，所述盖板本体上设置有一个贯通槽，所述贯通槽呈螺旋状延伸，或者，所述盖板本体上设置有多个贯通槽，且多个所述贯通槽首尾相连呈螺旋状排布。

在其中一个实施例中，所述至少一个贯通槽包括靠近所述螺旋排布中心的第一起始点，所述第一起始点与所述螺旋排布中心不重叠。

在其中一个实施例中，所述至少一个贯通槽与所述螺旋排布中心之间还包括至少一个衔接槽，所述衔接槽包括靠近所述螺旋排布中心的第二起始点；优选地，所述衔接槽通过所述第一起始点与相应贯通槽相连通，优选地，所述衔接槽为弧形。

在其中一个实施例中，所述蒸镀源盖板的纵截面包括由所述至少一个贯通槽形成的多个贯穿孔，所述贯穿孔靠近所述盖板本体中心的一侧边与远离所述盖板本体中心的一侧边平行，所述贯穿孔的轴线与所述盖板本体的面法线之间的夹角的最大值为锐角，和/或

所述贯穿孔靠近所述盖板本体中心的一侧边平行于所述面法线，所述贯穿孔远离所述盖板本体中心的一侧边与所述面法线夹角最大值为锐角。

在其中一个实施例中，所述夹角自所述盖板本体中心向外逐渐增大，和/或

所述贯穿孔的开口面积自所述盖板本体中心向外逐渐增大。

在其中一个实施例中，所述蒸镀源还包括磁性件，所述磁性件固定于所述盖板本体的内部或者所述蒸镀源盖板的侧面，优选地，所述磁性件固定于所述蒸镀源盖板的外周面。

在其中一个实施例中，所述蒸镀源还包括设置于所述蒸镀源盖板一侧的驱动机构，所述驱动机构包括用于驱动所述磁性件转动的磁力轮以及用于驱动所述磁力轮转动的电机。

此外，还提供一种蒸镀装置，包括上述的蒸镀源。

应用本实用新型技术方案的蒸镀源及蒸镀装置，由于蒸镀材料能够从贯通槽中喷射至待蒸镀基板上，蒸镀过程中，蒸镀源盖板旋转，能够使蒸镀材料在喷射时发生旋转扩散，保证喷射出的蒸镀材料的均匀性，从而有利于改善成膜的均匀性。

此外，由于旋转可提高成膜均匀性，因此可以适当减小蒸镀源与待蒸镀基板之间的距离T，从而提高蒸镀材料的利用率。

附图说明