[实用新型]偏光片精度精密测量盘有效
申请号: | 201920115478.7 | 申请日: | 2019-01-23 |
公开(公告)号: | CN209371934U | 公开(公告)日: | 2019-09-10 |
发明(设计)人: | 胡佩 | 申请(专利权)人: | 重庆工程职业技术学院 |
主分类号: | G01B5/00 | 分类号: | G01B5/00 |
代理公司: | 重庆天成卓越专利代理事务所(普通合伙) 50240 | 代理人: | 李梅 |
地址: | 402260 重*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 上层盘 下层盘 外轮廓 偏光片 旋转轴 精密测量 固定座 本实用新型 同一竖直面 外轮廓边缘 最大外轮廓 边缘设置 测量效率 螺旋线 上盘面 圆盘式 转动 测量 穿过 | ||
1.一种偏光片精度精密测量盘,其特征在于:包括固定座(1)、上层盘(2)和下层盘(3),所述上层盘(2)的外轮廓为螺旋线,所述下层盘(3)的外轮廓为标准圆,所述上层盘(2)的最大外轮廓边缘与下层盘(3)的外轮廓边缘位于同一竖直面内,在所述固定座(1)上设置有旋转轴(4),所述旋转轴(4)依次穿过下层盘(3)和上层盘(2)的中心,所述下层盘(3)和上层盘(2)均能绕旋转轴(4)转动,在所述上层盘(2)的上盘面边缘设置有一圈刻度(5),该刻度(5)用于显示下层盘(3)的外轮廓和上层盘(2)的外轮廓之间的径向宽度L。
2.根据权利要求1所述的偏光片精度精密测量盘,其特征在于:所述上层盘(2)的螺距为1.8mm,所述下层盘(3)的直径为72mm,所述上层盘(2)的刻度(5)数值范围为0-1.8mm,测量精度为0.01mm。
3.根据权利要求1或2所述的偏光片精度精密测量盘,其特征在于:在所述上层盘(2)的上盘面上刻度(5)数值为0mm的位置设置有辅助球(6),该辅助球(6)向上凸出上层盘(2)的上盘面。
4.根据权利要求1所述的偏光片精度精密测量盘,其特征在于:以所述上层盘(2)的中心为基点,将刻度(5)按一定的比例缩小,设置在上层盘(2)的中部形成备用刻度(7)。
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