[实用新型]一种PECVD装置真空腔内用汽体分散装置

说明书

本实用新型公开了一种PECVD装置真空腔内用汽体分散装置，包括与PECVD设备连接的通气固定底座，通气固定底座的中心轴向上延伸一段并向外展开形成有伞型锥状支撑体，伞型锥状支撑体上端连接有分散座与多个分散片，多个分散片均匀分散连接在分散座的外表面，通气固定底座上在中心轴外周围设置有多个通气孔，分散座内为中空的并通过连接片连接设置在分散座中心的中心通孔座，多个分散片的底部倾斜角度设置为分散片与分散座的中心轴线方向呈5‑35度。本实用新型通过伞型锥状支撑体和多个分散片的设置，有益气体快速有效分散进入真空腔蒸汽，确保工件表面纳米防水膜均匀分布，该分散装置可以长期耐180℃高温环境工作，结构设计紧凑合理，方便拆装与维护。

技术领域

本实用新型涉及纳米防水设备技术领域，特别是涉及一种PECVD装置真空腔内用汽体分散装置。

背景技术

顺应电子产品的广大需求与发展，纳米防水处理的电子产品要求越来越高，采用PECVD真空镀膜纳米防水处理成为目前的热点，在很多高端电子产品表面均需要采用纳米防水处理，然而，存在纳米蒸汽沉积不均匀、气体进口处气体容易液化、耐温性不强容易损坏、使用寿命不长等问题。因此，确有必要开发一种耐高温、气体分散装置已得到均匀的纳米防水膜的PECVD装置真空腔内用汽体分散装置。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种PECVD装置真空腔内用汽体分散装置，通过伞型锥状支撑体和多个分散片的设置，有益气体快速有效分散进入真空腔蒸汽，确保工件表面纳米防水膜均匀分布，该分散装置可以长期耐180℃高温环境工作，结构设计紧凑合理，方便拆装与维护，克服了目前纳米防水处理纳米防水膜不均匀问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：

一种PECVD装置真空腔内用汽体分散装置，其包括与PECVD设备连接的通气固定底座，所述通气固定底座的中心轴向上延伸一段并向外展开形成有伞型锥状支撑体，所述伞型锥状支撑体上端连接有分散座与多个分散片，所述多个分散片均匀分散连接在分散座的外表面，所述通气固定底座上在中心轴外周围设置有多个通气孔，所述分散座内为中空的并通过连接片连接设置在分散座中心的中心通孔座，所述多个分散片的底部倾斜角度设置为分散片与分散座的中心轴线方向呈5-35度。

优选地，所述的伞型锥状支撑体的最大直径大于通气固定底座的直径。

优选地，所述的通气固定底座为圆柱体形，通气固定底座的下部向内凹陷呈槽体结构。

优选地，所述的多个分散片的长度相等，两两之间的间隔距离相近，分散片呈类长方形扇形均匀分布。

优选地，所述的分散座呈中空圆筒形，在真空腔内与汽体管路驳接。

优选地，该气体进口分散装置均采用导热优良的导热材料制成。

与现有技术相比，本实用新型能达到的有益效果是：

本实用新型的PECVD装置真空腔内用汽体分散装置，通过伞型锥状支撑体和多个分散片的设置，有益气体快速有效分散进入真空腔蒸汽，确保工件表面纳米防水膜均匀分布，该分散装置可以长期耐180℃高温环境工作，结构设计紧凑合理，方便拆装与维护。

附图说明

图1是本实用新型的部分结构示意图；

图2是本实用新型的另一部分机构示意图；

图3是本实用新型的整体结构示意图；

图4是本实用新型的省略分散片后部分结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。