[发明专利]反光瓷砖及反光瓷砖的制备方法

权利要求书

1.一种反光瓷砖，其特征在于，所述反光瓷砖包括：依次设置的基底层、图案层、反光层及保护层；

其中，所述基底层上开设有多个凹槽，多个凹槽的槽壁与基底层之间的角度不同；

其中，所述反光层包括以重量计的以下组分：

玻璃珠粉30-40份、二氧化硅30-40份、硫酸钡30-40份、蜡粉10-15份、抗氧化剂6-10份、固化剂5-15份、溶剂10-25份、助剂5-15份。

2.根据权利要求1所述的反光瓷砖，其特征在于，所述反光层包括以重量计的以下组分：

玻璃珠粉35-40份、二氧化硅35-40份、硫酸钡35-40份、蜡粉12-15份、抗氧化剂8-10份、固化剂10-15份、溶剂15-25份、助剂10-15份。

3.根据权利要求1所述的反光瓷砖，其特征在于，所述反光层包括以重量计的以下组分：

玻璃珠粉36份、二氧化硅37份、硫酸钡38份、蜡粉14份、抗氧化剂9份、固化剂12份、溶剂18份、助剂13份。

4.根据权利要求1所述的反光瓷砖，其特征在于，所述溶剂为乙酸正丁酯和二甲苯的混合物。

5.根据权利要求2所述的反光瓷砖，其特征在于，所述乙酸正丁酯与所述二甲苯的用量比例为1:2。

6.根据权利要求1所述的反光瓷砖，其特征在于，所述助剂包括：悬浮剂、分散剂。

7.根据权利要求1所述的反光瓷砖，其特征在于，所述凹槽的截面为折线型或曲线型。

8.一种权利要求1至7中任一项所述反光瓷砖的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：

通过一侧带有凸起的压制模具对基底材料进行压制，获取基底层；

在基底层带有凹槽的表面喷涂染料，获取图案层；

经700℃至900℃对基底层及图案层进行烧制，获取瓷砖半成品；

配置反光涂料，在所述瓷砖半成品上喷涂所述反光涂料，经500℃至700℃烘烤，获取反光层；

在所述反光层上喷涂保护层材料，经800℃至1000℃固化形成保护层，制备获取反光瓷砖。