[发明专利]用于同时蚀刻包含氧化锌及银的层压膜的蚀刻液组合物

说明书

本发明的目的在于，提供可以在缩小氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物膜与银或银合金膜相邻的层压膜的侧面蚀刻差的同时，简单且经济地进行蚀刻的蚀刻液组合物。本发明涉及用于同时蚀刻氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物膜与银或银合金膜相邻的层压膜底板的上述两个膜的蚀刻液组合物，其包含(A)过氧化氢、(B)银络合剂、以及(C)水。

技术领域

本发明涉及用于有机发光二极管、太阳能电池等的同时蚀刻包含氧化锌及银的层压膜的蚀刻液组合物、以及使用上述蚀刻液组合物的底板的蚀刻方法。

背景技术

近年来，在有机发光二极管(OLED：Organic Light Emitting Diode)中经常使用包含氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物膜及银或银合金膜的层压膜(图1)。透明金属氧化物膜被用作电子传输层或电极的材料，其中，氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物不仅比现有材料铟-锡-氧化物(ITO)更具透明性，锌-硅-氧化物(ZSO)作为电子传输层具有高电子迁移率。并且，银或银合金被用作电极材料，具有反射率高、电阻低的特性。期待这种层压膜不仅用于有机发光二极管，还用于太阳能电池等中。

有机发光二极管的层压膜的形成工序通常包括：在底板上形成银或银合金膜及透明金属氧化物膜的步骤；在其上涂覆光刻胶的步骤；将光刻胶作为掩模蚀刻选定区域并且加工成预定图案形状的步骤；以及去除残留光刻胶的步骤。

作为在上述蚀刻工序中使用的包含氧化锌或含氧化锌的透明金属氧化物膜与银或银合金膜的层压膜的蚀刻液，提出了如下的组合物：

包含磷酸、硝酸、乙酸、唑类化合物及去离子水的蚀刻液组合物(专利文献1)；包含磷酸、硝酸、乙酸、磷酸盐、硝酸盐和/或乙酸盐及去离子水的蚀刻液组合物(专利文献2)；包含选自氯化铁、氯化铜、硝酸铈铵、硫酸铈铵、硝酸铈、过氧化氢的氧化剂以及选自盐酸、硝酸、硫酸、磷酸、乙酸的酸的蚀刻液组合物(专利文献3)；包含过氧化氢、硫酸及含氮化合物的蚀刻液组合物(专利文献4)等。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：特开2017-092439号公报

专利文献2：特开2016-167581号公报

专利文献3：特开2009-235438号公报

专利文献4：专利第5845501号

发明内容

然而，本发明人面临如下的问题：在对氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物膜与银或银合金膜相邻的层压膜使用包含硝酸、硫酸等的强酸的蚀刻液的情况下，由于氧化锌的耐化学性低，相对于银或银合金膜的蚀刻速度，氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物膜的蚀刻速度高几倍，因而两个膜的侧面蚀刻差变大。若侧面蚀刻的差大，则无法制造合适的设备。

并且，在分别蚀刻各膜的情况下，虽然可以解决上述问题，但与同时蚀刻两个膜的情况相比，不仅增加处理工序，还需要用于各膜的蚀刻液或装置，因此有可能会增加处理成本。

因此，本发明人将提供可以同时蚀刻氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物膜与银或银合金膜相邻的层压膜中的两个膜、并且可以控制两个膜的蚀刻速度的蚀刻液组合物作为目的进行了研究。即，本发明的目的在于，提供可以在缩小氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物膜与银或银合金膜相邻的层压膜中的两个膜的侧面蚀刻差的同时，简单且经济地进行蚀刻的蚀刻液组合物。

在解决上述问题的认真研究中，本发明人发现在用于同时蚀刻氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物膜与银或银合金膜相邻的层压膜底板中的两个膜的蚀刻液组合物中，上述蚀刻液组合物包含过氧化氢、银络合剂、以及水，上述蚀刻液组合物可以同时蚀刻两个膜，控制两个膜的蚀刻速度，并且可以缩小两个膜的侧面蚀刻差，经过进一步研究，完成了本发明。