[发明专利]用于同时蚀刻包含氧化锌及银的层压膜的蚀刻液组合物有效

专利信息
申请号: 201911380289.3 申请日: 2019-12-27
公开(公告)号: CN111378453B 公开(公告)日: 2023-06-30
发明(设计)人: 佐佐木辽;高桥秀树;清水寿和;中村伸宏;増茂邦雄;渡边晓 申请(专利权)人: 关东化学株式会社
主分类号: C09K13/00 分类号: C09K13/00;C09K13/04;C09K13/06;C23F1/30;C23F1/40;C23F1/02;H01L21/306
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人: 高一平;徐迅
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 用于 同时 蚀刻 包含 氧化锌 层压 组合
【权利要求书】:

1.一种使用蚀刻液组合物同时蚀刻氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物的膜与银或银合金的膜相邻的层压膜底板的上述两个膜的方法,其特征在于,蚀刻液组合物

包含(A)过氧化氢、(B)银络合剂、以及(C)水,

银络合剂为选自由包含氮原子的羧酸及包含氮原子的羧酸盐组成的组中的一种或两种以上,

银络合剂的浓度为0.02~0.08mol/L,

不包含硫酸、硫酸离子、硝酸、及硝酸离子。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物选自由氧化锌、锌-硅-氧化物、铝-锌-氧化物、镓-锌-氧化物、铟-镓-锌-氧化物、铟-锌-氧化物、铟-锌-锡-氧化物、锌-镓-锡-氧化物及锌-硅-锡-氧化物组成的组中的一种或两种以上。

3.根据权利要求1或2中任一项所述的方法,其特征在于,氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物为锌-硅-氧化物。

4.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,包含一种或两种以上酸性化合物。

5.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,不包含选自由氯化物、溴化物、碘化物以及它们的离子组成的组中的一种以上。

6.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,pH为2.0~10.0。

7.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,pH为7.0~10.0。

8.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,过氧化氢的浓度为0.1重量百分比~10.0重量百分比。

9.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,相对于由氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物的膜组成的层的厚度方向的蚀刻速度大于10nm/min且小于600nm/min。

10.一种接线底板,其特征在于,使用权利要求1至9中的任一项所述的方法同时蚀刻氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物的膜与银或银合金的膜相邻的层压膜底板而得。

11.一种接线底板的制造方法,其特征在于,包括使用权利要求1至9中任一项所述的方法同时蚀刻氧化锌或包含氧化锌的透明金属氧化物的膜与银或银合金的膜相邻的层压膜底板的所述两膜的工序。

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