[发明专利]一种薄膜台阶的制备方法

说明书

本发明涉及一种薄膜台阶的制备方法，属于光学薄膜领域，包括:在基底上划出具有一定厚度的痕迹；在所述基底上沉积一层薄膜得到镀有薄膜的基底，所述薄膜的厚度小于痕迹的厚度；去除基底上的痕迹，得到有台阶的薄膜。该方法克服了传统银膜台阶制作方法固有的台阶界面不清晰、有褶皱等缺陷。采用本发明的制作方法，能够得到界限清晰的薄膜台阶，为后续薄膜台阶的测量提供了便利。与传统台阶制作方法相比，该方法工艺简单，容易控制。

技术领域

本发明涉及光学薄膜领域，具体而言，涉及一种薄膜台阶的制备方法。

背景技术

在光学薄膜领域，薄膜厚度是最重要的测量参数之一。确定了薄膜厚度，就可以对薄膜沉积速率进行定标，就可以根据光谱曲线对光学常数进行精确的反演。薄膜厚度的表征方法主要有光谱法和台阶法。台阶法是一种直观的测量方法，就是在光学基底上制作一个台阶，用光学轮廓仪(非接触式)或者探针轮廓仪(接触式)测量该台阶，进而确定台阶即薄膜的厚度。使用台阶法测量膜厚，台阶的制作是一个关键步骤，台阶制作的优劣直接决定了薄膜厚度测量的准确性。现在普遍采用的方法是：先在基底上沉积一层银膜，用双面胶将部分银膜去掉；然后在整个基片上镀膜；最后将有银膜部分的薄膜用双面胶去掉。这样就留下了只有薄膜的台阶。

这种银膜台阶制作方法利用了银膜牢固性差的特点。用这种方法制作台阶时，常常出现银膜去除不净，界面有褶皱，有凸起，制作的台阶质量通常较差，给后续的测量带来很大的误差。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供可以获得台阶界面清晰、表面平整的一种薄膜台阶的制备方法。为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：

一种薄膜台阶的制备方法，包括:

在基底上划出具有一定厚度的痕迹；

在所述基底上沉积一层薄膜得到镀有薄膜的基底，所述薄膜的厚度小于痕迹的厚度；

去除基底上的痕迹，得到有台阶的薄膜。

在其中一个实施例中，在基底上划出具有一定厚度的痕迹之前还包括：将基底置于高纯水和酒精中分别超声，再吹干。

在其中一个实施例中，超声的频率为40kHz-270kHz，超声时间为10分钟-20分钟，采用氮气吹干。

在其中一个实施例中，所述基底为熔石英基底或硅片基底，采用记号笔划出具有一定厚度的痕迹。

在其中一个实施例中，所述去除基底上的痕迹为：将基底用酒精或丙酮或石油醚溶液超声清洗，待记号笔划出的痕迹消失后，将基底取出。

在其中一个实施例中，所述薄膜为SiC或Si或B₄C或BN薄膜。

在其中一个实施例中，采用磁控溅射在所述基底上沉积一层薄膜。

在其中一个实施例中，所述痕迹的宽度为：5-25mm，所述痕迹的厚度为：10-100nm。

本发明的有益效果是：相对于现有技术，本发明在沉积薄膜前在基底上划出痕迹，该痕迹在后续的过程中可以去除，且由于痕迹具有一定的宽度和厚度，在去除的痕迹的过程中，直接形成了台阶，该方法克服了传统银膜台阶制作方法固有的台阶界面不清晰、有褶皱等缺陷。采用本发明的制作方法，能够得到界限清晰的薄膜台阶，为后续薄膜台阶的测量提供了便利。与传统台阶制作方法相比，该方法工艺简单，容易控制。

附图说明

图1是一实施方式的薄膜台阶制作工艺示意图；

图2是实施例1制备的45nm SiC薄膜台阶；

图3为图2中的45nm SiC薄膜台阶的轮廓仪测试图；

图4为图2中的45nm SiC薄膜台阶的轮廓仪测试结果图。