[发明专利]显示面板及其制备方法在审
申请号: | 201911369011.6 | 申请日: | 2019-12-26 |
公开(公告)号: | CN111063818A | 公开(公告)日: | 2020-04-24 |
发明(设计)人: | 杨林;李们在;李先杰;罗佳佳;王煦 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50;H01L51/56 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 吕姝娟 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种显示面板,其特征在于,包括:依次设置的基板、第一电极、空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、有机电致发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、以及第二电极,其中所述电子阻挡层对应所述有机电致发光层的绿色子像素区域采用p型绿光主体材料制备。
2.如权利要求1所述显示面板,其特征在于,所述p型绿光主体材料为2-(二苯并呋喃-3)-4-(5-(二苯并呋喃-4)-[1,1'-联苯基]-3)-6-苯基-1,3,5-三嗪或是3-(3'-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2)-[1,1'-联苯基]-3)-9-苯基-9H-咔唑。
3.如权利要求1所述显示面板,其特征在于,所述空穴注入层的厚度为30-500埃米,所述空穴传输层的厚度为100-2000埃米,所述电子阻挡层的厚度为100-2000埃米,所述有机电致发光层的厚度为30-800埃米,所述空穴阻挡层的厚度为10-500埃米,所述电子传输层的厚度为50-800埃米,所述电子注入层的厚度为5-400埃米,所述第二电极的厚度为50-300埃米。
4.如权利要求1所述显示面板,其特征在于,所述电子阻挡层还包括对应所述有机电致发光层的红色子像素区域的红色阻挡部,以及对应所述有机电致发光层的蓝色子像素区域的蓝色阻挡部,所述p型绿光主体材料设置于所述红色阻挡部和所述蓝色阻挡部之间。
5.如权利要求1所述显示面板,其特征在于,还包括依次设置在所述第二电极上的覆盖层、保护层及封装层,所述基板包括衬底和薄膜晶体管驱动层,所述第一电极设置在所述薄膜晶体管驱动层上。
6.一种显示面板,其特征在于,包括:依次设置的基板、第一电极、空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、有机电致发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、以及第二电极,其中所述有机电致发光层包括间隔设置的红色子像素区域、绿色子像素区域和蓝色子像素区域,所述电子阻挡层对应所述绿色子像素区域采用p型绿光主体材料制备,对应所述红色子像素区域为红色阻挡部,对应所述蓝色子像素区域为蓝色阻挡部。
7.如权利要求6所述显示面板,其特征在于,所述p型绿光主体材料为2-(二苯并呋喃-3)-4-(5-(二苯并呋喃-4)-[1,1'-联苯基]-3)-6-苯基-1,3,5-三嗪或是3-(3'-(4,6-二苯基-1,3,5-三嗪-2)-[1,1'-联苯基]-3)-9-苯基-9H-咔唑,所述电子阻挡层的厚度为100-2000埃米,所述有机电致发光层的厚度为30-800埃米。
8.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
依次提供基板、第一电极、空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、有机电致发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层、以及第二电极;
其中所述电子阻挡层对应所述有机电致发光层的绿色子像素区域采用p型绿光主体材料制备。
9.如权利要求8所述显示面板的制备方法,其特征在于,当制备所述p型绿光主体材料于所述绿色子像素区域时,开启p型绿光主体材料蒸镀源的挡板,关闭红光掺杂材料蒸镀源和n型红光主体材料蒸镀源的挡板,使所述p型绿光主体材料沉积在所述空穴传输层上,当制备所述有机电致发光层时,同时开启所述p型绿光主体材料蒸镀源、所述红光掺杂材料蒸镀源和所述n型红光主体材料蒸镀源的挡板,混合所述p型绿光主体材料、所述红光掺杂材料和所述n型红光主体材料。
10.如权利要求9所述显示面板的制备方法,其特征在于,所述p型绿光主体材料和所述n型红光主体材料的混合比例通过蒸镀镀率调节,所述红光掺杂材料的掺杂比例通过蒸镀镀率调节,所述p型绿光主体材料、所述红光掺杂材料和所述n型红光主体材料的蒸镀范围通过精细金属掩模版的角度限制板进行控制。
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