[发明专利]一种工件储存运输装置在审
申请号: | 201911367131.2 | 申请日: | 2019-12-26 |
公开(公告)号: | CN111112221A | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 李昀泽 | 申请(专利权)人: | 西安奕斯伟硅片技术有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B13/00;H01L21/677 |
代理公司: | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 刘长春 |
地址: | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工件 储存 运输 装置 | ||
本发明公开了一种工件储存运输装置,包括储存机构、运输机构和超声波系统,其中,储存机构包括保护容器和容纳在保护容器中的清洗槽,清洗槽的顶部包括用于放置待运输工件的开口;运输机构包括水平设置的载物板,保护容器以可拆卸的方式固定在载物板上;超声波系统设置在载物板上,用于使清洗槽中的清洗液进行超声振动。该工件储存运输装置适用于抛光后未清洗工件的储存及运输过程,可大幅度减少未清洗工件表面颗粒等杂质,降低后续清洗设备的清洗压力,提高最终产品的质量,且本发明的清洗槽可以方便地从运输机构上分离并直接运输到后续清洁设备中,可实现清洗设备抓取工件的自动化。
技术领域
本发明涉及硅片制造技术领域,更具体地,涉及一种工件储存运输装置。
背景技术
在半导体材料的加工过程中,硅片作为半导体器件和集成电路常用的基础材料,通常需要进行抛光处理,抛光效果的好坏将直接影响到硅片的质量和半导体器件的性能。
目前,经抛光设备抛光后未清洗的硅片通常先储存在装满水的超声波水车中,水车中包括水槽,硅片被放置在水槽内,等到水槽装满硅片之后再运输至清洗设备中进行清洗。然而,由于抛光工艺时间较长,使得装满水槽所需时间较长,例如,装满可容纳25片硅片的水槽需要2小时左右。在这个过程中,抛光过程中产生的SiO2等颗粒或污染物会吸附在硅片表面,大大增加了硅片后续的清洗难度。
另外,现有的超声波水车盛放硅片的水槽与运输机构不可分离,需要工作人员手动抓取水槽中的硅片放置到清洗设备中,这增加了来自工作人员的不可控因素,且存在硅片被污染的可能性。
发明内容
为了解决现有技术中存在的上述问题,本发明提供了一种工件储存运输装置。本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现:
本发明提供了一种工件储存运输装置,包括储存机构、运输机构和超声波系统,其中,
所述储存机构包括保护容器和容纳在所述保护容器中的清洗槽,所述清洗槽的顶部包括用于放置待运输工件的开口;所述运输机构包括水平设置的载物板,所述保护容器以可拆卸的方式固定在所述载物板上;
所述超声波系统设置在所述载物板上,用于使所述清洗槽中的清洗液进行超声振动。
在本发明的一个实施例中,所述载物板上设置有多个可升降固定销,所述可升降固定销能够缩进或伸出所述载物板;所述保护容器的底部外表面上开设有多个固定槽,并且所述可升降固定销在伸出所述载物板时能够插入对应的所述固定槽中。
在本发明的一个实施例中,所述固定槽的内径略大于所述可升降固定销的外径。
在本发明的一个实施例中,所述运输机构上还设置有脚踏板,所述脚踏板连接至所述可升降固定销,以控制所述可升降固定销进行升降。
在本发明的一个实施例中,所述超声波系统包括彼此电连接的超声波振动板和超声波发生机构,其中,所述超声波振动板设置在所述保护容器的内部,且所述清洗槽设置在所述超声波振动板上。
在本发明的一个实施例中,所述超声波发生机构固定在所述载物板的下表面。
在本发明的一个实施例中,所述多个可升降固定销中的一个的内部设置有所述超声波发生机构的信号接收顶针,所述超声波振动板通过线缆连接至所述信号接收顶针。
在本发明的一个实施例中,所述运输机构上还设置有溢流系统,所述溢流系统连接至所述清洗槽,以控制所述清洗槽内的清洗液以自下而上流动的方式清洗所述工件。
在本发明的一个实施例中,所述溢流系统包括循环管路、循环泵和过滤器,其中,
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