[发明专利]一种用于缩聚反应装置的真空调节方法及其使用的真空系统

权利要求书

1.一种用于缩聚反应装置的真空调节方法，其特征在于：采用真空系统，真空系统包括分别连通缩聚反应装置（6）和真空泵的真空吸收罐（1），所述真空吸收罐（1）上设液相进口（2）、液相出口（3）、连通缩聚反应装置（6）的气相进口（4）以及连通真空泵的气相出口（5），液相出口（3）高于液相进口（2），气相进口（4）和气相出口（5）均高于液相出口（3），气相进口（4）沿真空吸收罐（1）向内延伸形成进气管（7），进气管（7）的出口端面与液相出口（3）的底端齐平，并设吸收液罐（11），液相进口（2）和液相出口（3）分别连通吸收液罐（11），

通过控制真空吸收罐（1）内的液位高度来调节缩聚反应装置（6）内的真空度，保证真空吸收罐（1）内的液位高度高于或等于进气管（7）的出口端面，

使吸收液沿液相进口（2）和液相出口（3）在真空吸收罐（1）与吸收液罐（11）之间循环流动，液相出口（3）处吸收液的流量大小依据气相出口（5）处的压力进行调节。

2.根据权利要求1所述的一种用于缩聚反应装置的真空调节方法，其特征在于：控制气相进口（4）的压力与缩聚反应装置（6）内的压力相等，控制真空吸收罐（1）的压力与吸收液罐（11）的压力相等。

3.根据权利要求1所述的一种用于缩聚反应装置的真空调节方法，其特征在于：所述吸收液的沸点≥130℃，其与缩聚反应产生的气相中所含的小分子化合物互溶但不发生化学反应。

4.一种如权利要求1所述的用于缩聚反应装置的真空调节方法所采用的真空系统。

5.根据权利要求4所述的真空系统，其特征在于：在所述真空吸收罐（1）上设压力表（8），在连接液相出口（3）的管道上设流量调节阀（10）。

6.根据权利要求4所述的真空系统，其特征在于：所述真空吸收罐（1）与吸收液罐（11）之间设气相平衡管（12）。