[发明专利]一种蚀刻后的表面防氧化处理装置有效
申请号: | 201911353419.4 | 申请日: | 2019-12-25 |
公开(公告)号: | CN111162026B | 公开(公告)日: | 2022-04-15 |
发明(设计)人: | 沈方晨 | 申请(专利权)人: | 绍兴华立电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 绍兴越牛专利代理事务所(普通合伙) 33394 | 代理人: | 王剑 |
地址: | 312000 浙江省绍兴市袍*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 蚀刻 表面 氧化 处理 装置 | ||
本发明公开了一种蚀刻后的表面防氧化处理装置,涉及防氧化技术领域。该蚀刻后的表面防氧化处理装置,包括液压仓A,所述液压仓A包括液压仓A内壁,所述液压仓A内壁与活塞C为密封活塞连接,所述活塞C的顶端与活塞传动杆A的底端固定连接,所述活塞传动杆A的顶端与活塞A的底端固定连接,所述活塞A与液压仓C为密封活塞连接,所述液压仓C的内部设置有活塞挡板,该蚀刻后的表面防氧化处理装置能够实现单种药剂不停机作业,大大的提高了工作效率,提升了产品的品质,该蚀刻后的表面防氧化处理装置能够实现不同工艺的生产需要,当生产工艺需要两种或以上的药剂的时候可以实现多种药剂依次对所需产品进行防氧化处理。
技术领域
本发明涉及防氧化技术领域,具体为一种蚀刻后的表面防氧化处理装置。
背景技术
蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻技术可以分为湿蚀刻和干蚀刻两类,最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
但是目前市场上大多数的蚀刻后防氧化处理装置都不能做到不停机作业,大多数的装置在药箱装置内的药剂用完过后,需要停机往药箱装置内部装入新的药剂,这样不仅耽误时间,而且还降低了工作效率,在生产的过程当中耽误了产品最适合防氧化处理的时机,而且有的生产工艺当中需要两种不同的药剂来对产品进行防氧化处理,即两个药箱装置内不能装有相同的药剂。
发明内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足,本发明提供了一种蚀刻后的表面防氧化处理装置,解决了但是目前市场上大多数的蚀刻后防氧化处理装置都不能做到不停机作业,大多数的装置在药箱装置内的药剂用完过后,需要停机往药箱装置内部装入新的药剂,这样不仅耽误时间,而且还降低了工作效率,在生产的过程当中耽误了产品最适合防氧化处理的时机,而且有的生产工艺当中需要两种不同的药剂来对产品进行防氧化处理,即两个药箱装置内不能装有相同的药剂的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种蚀刻后的表面防氧化处理装置,包括液压仓A,所述液压仓A包括液压仓A内壁,所述液压仓A内壁与活塞C为密封活塞连接,所述活塞C的顶端与活塞传动杆A的底端固定连接,所述活塞传动杆A的顶端与活塞A的底端固定连接,所述活塞A与液压仓C为密封活塞连接,所述液压仓C包括液压仓C内壁,所述液压仓C内壁的底部与液压仓A内壁和液压仓B内壁的顶部固定连接,所述液压仓C的内部设置有活塞挡板,所述活塞挡板的右侧密封活塞连接活塞B,所述活塞B的底端与活塞传动杆B固定连接,所述活塞传动杆B的底端与活塞D的顶端固定连接,所述活塞D与液压仓B为密封活塞连接,所述液压仓A的右侧设置有液压仓B,所述液压仓A的右侧设置有液压仓D,所述液压仓D的右侧与液压仓A内壁固定连接,所述液压仓D的顶部与活塞E为密封活塞连接,所述活塞E的顶部与液压传动杆A的底部固定连接,所述液压仓D的底部与活塞F为密封活塞连接,所述活塞F的底部与活塞传动杆C为固定连接,所述活塞传动杆C的顶部与活塞G的底部固定连接,所述活塞G的左侧设置有活塞F挡板,所述活塞G与液压仓E的底部为密封活塞连接,所述液压仓E的右侧与活塞H为活塞密封连接,所述活塞H的底部与液压传动杆B的顶部固定连接,所述液压仓E的右侧设置有液压仓F,所述液压仓F的上方与活塞I为活塞密封连接,所述活塞I的顶端与活塞传动杆D固定连接,所述液压仓F的底部与活塞M为密封活塞连接,所述活塞M的底部与活塞传动杆E的顶部固定连接,所述活塞传动杆E与活塞L的底部固定连接,所述活塞L与液压仓G为密封活塞连接,所述液压仓G的顶部与活塞K为活塞密封连接,所述活塞K的顶部与液压传动杆C的底部为固定连接,所述活塞传动杆D的底部与支架的右端铰接,所述支架的左端与出水口挡板铰接,所述出水口挡板的两端穿过出水口的内壁在出水口的内壁上滑动,所述出水口的内壁的中间部位固定安装压力泵,所述液压仓A的底部设置有进水口,所述进水口设置有进水口内壁。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造