[发明专利]基板吸附装置

说明书

本发明公开了一种基板吸附装置，包括：至少一第一吸附部，所述第一吸附部设置于所述基板吸附装置的吸附面的中部区域；至少两第二吸附部，所述第二吸附部设置于所述吸附面的外围区域，其中，所述外围区域位于所述中部区域的至少一侧；所述第二吸附部的第二吸附力大于所述第一吸附部的第一吸附力。本发明能防止出现吸附基板失败的情况。

【技术领域】

本发明涉及显示面板制造技术领域，特别涉及一种基板吸附装置。

【背景技术】

在显示面板的制造过程中，基板上一般会设置一层柔性膜层，由于该柔性膜层具有较大的内应力，因此基板容易受到该内应力而发生形变，具体的表现为：基板的四周会出现一定程度的翘曲，其中，基板的四个角的翘曲程度最明显。

在对基板进行吸附时，由于需要将基板反过来再进行吸附，此时，基板的重力与柔性膜层的内应力叠加作用，加剧了基板的四周的翘曲的程度，在这种情况下，会出现吸附基板失败的情况。特别地，基板的尺寸越大，基板的四周的翘曲的程度越大，此时，吸附失败的概率越大。

故，有必要提出一种新的技术方案，以解决上述技术问题。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种基板吸附装置，其能防止出现吸附基板失败的情况。

为解决上述问题，本发明的技术方案如下：

一种基板吸附装置，所述基板吸附装置包括：至少一第一吸附部，所述第一吸附部设置于所述基板吸附装置的吸附面的中部区域；至少两第二吸附部，所述第二吸附部设置于所述吸附面的外围区域，其中，所述外围区域位于所述中部区域的至少一侧；所述第二吸附部的第二吸附力大于所述第一吸附部的第一吸附力。

在上述基板吸附装置中，所述第一吸附部产生所述第一吸附力的时间先于所述第二吸附部产生所述第二吸附力的时间。

在上述基板吸附装置中，所述第一吸附部包括第一真空吸附构件，至少两所述第一真空吸附构件以一维阵列或二维阵列的形式排列；所述第二吸附部包括第二真空吸附构件，至少两所述第二真空吸附构件以一维阵列或二维阵列的形式排列。

在上述基板吸附装置中，所述基板吸附装置还包括：真空抽吸器，所述真空抽吸器与所述第一真空吸附构件和所述第二真空吸附构件相连，所述真空抽吸器用于向所述第一真空吸附构件抽吸真空，以使所述第一吸附构件生成所述第一吸附力，以及用于向所述第二真空吸附构件抽吸真空，以使所述第二真空吸附构件生成所述第二吸附力。

在上述基板吸附装置中，所述真空抽吸器用于在第一时间段内向所述第一真空吸附构件抽吸真空，以使所述第一吸附构件在所述第一时间段内生成所述第一吸附力，以及用于在第二时间段内向所述第二真空吸附构件抽吸真空，以使所述第二真空吸附构件在所述第二时间段内生成所述第二吸附力。

在上述基板吸附装置中，所述第一真空吸附构件包括第一吸盘和第一吸管，所述第一吸盘与所述第一吸管的一端连接，所述第一吸管的另一端与所述真空抽吸器连接；所述第二真空吸附构件包括第二吸盘和第二吸管，所述第二吸盘与所述第二吸管的一端连接，所述第二吸管的另一端与所述真空抽吸器连接。

在上述基板吸附装置中，所述第一吸附部、所述第二吸附部在所述吸附面上的投影的形状为直角三角形、矩形、梯形、扇形、环形中的一种或一种以上的组合。

在上述基板吸附装置中，在所述第一吸附部中，至少两所述第一真空吸附构件的第一吸附力自所述中部区域指向所述外围区域的方向均匀分布或递增。

在上述基板吸附装置中，在所述第二吸附部中，至少两所述第二真空吸附构件的第二吸附力自所述中部区域指向所述外围区域的方向递增或递减。

在上述基板吸附装置中，所述基板吸附装置还包括：支承台，所述第一吸附部和所述第二吸附部均固定于所述支承台上。