[发明专利]基板吸附装置

权利要求书

1.一种基板吸附装置，其特征在于，所述基板吸附装置包括：

至少一第一吸附部，所述第一吸附部设置于所述基板吸附装置的吸附面的中部区域；

至少两第二吸附部，所述第二吸附部设置于所述吸附面的外围区域，其中，所述外围区域位于所述中部区域的至少一侧；

所述第二吸附部的第二吸附力大于所述第一吸附部的第一吸附力。

2.根据权利要求1所述的基板吸附装置，其特征在于，所述第一吸附部产生所述第一吸附力的时间先于所述第二吸附部产生所述第二吸附力的时间。

3.根据权利要求1所述的基板吸附装置，其特征在于，所述第一吸附部包括第一真空吸附构件，至少两所述第一真空吸附构件以一维阵列或二维阵列的形式排列；

所述第二吸附部包括第二真空吸附构件，至少两所述第二真空吸附构件以一维阵列或二维阵列的形式排列。

4.根据权利要求3所述的基板吸附装置，其特征在于，所述基板吸附装置还包括：

真空抽吸器，所述真空抽吸器与所述第一真空吸附构件和所述第二真空吸附构件相连，所述真空抽吸器用于向所述第一真空吸附构件抽吸真空，以使所述第一吸附构件生成所述第一吸附力，以及用于向所述第二真空吸附构件抽吸真空，以使所述第二真空吸附构件生成所述第二吸附力。

5.根据权利要求4所述的基板吸附装置，其特征在于，所述真空抽吸器用于在第一时间段内向所述第一真空吸附构件抽吸真空，以使所述第一吸附构件在所述第一时间段内生成所述第一吸附力，以及用于在第二时间段内向所述第二真空吸附构件抽吸真空，以使所述第二真空吸附构件在所述第二时间段内生成所述第二吸附力。

6.根据权利要求4所述的基板吸附装置，其特征在于，所述第一真空吸附构件包括第一吸盘和第一吸管，所述第一吸盘与所述第一吸管的一端连接，所述第一吸管的另一端与所述真空抽吸器连接；

所述第二真空吸附构件包括第二吸盘和第二吸管，所述第二吸盘与所述第二吸管的一端连接，所述第二吸管的另一端与所述真空抽吸器连接。

7.根据权利要求1所述的基板吸附装置，其特征在于，所述第一吸附部、所述第二吸附部在所述吸附面上的投影的形状为直角三角形、矩形、梯形、扇形、环形中的一种或一种以上的组合。

8.根据权利要求1所述的基板吸附装置，其特征在于，在所述第一吸附部中，至少两所述第一真空吸附构件的第一吸附力自所述中部区域指向所述外围区域的方向均匀分布或递增。

9.根据权利要求1所述的基板吸附装置，其特征在于，在所述第二吸附部中，至少两所述第二真空吸附构件的第二吸附力自所述中部区域指向所述外围区域的方向递增或递减。

10.根据权利要求1所述的基板吸附装置，其特征在于，所述基板吸附装置还包括：

支承台，所述第一吸附部和所述第二吸附部均固定于所述支承台上。