[发明专利]一种气相沉积反应腔体的承载装置及清洗系统

说明书

本发明涉及一种气相沉积反应腔体的承载装置及清洗系统，该气相沉积反应腔体的承载装置包括：承载板、挡板组件和承托件，其中，承载板上开设有第一开口；挡板组件环绕于承载板的周向，以使挡板组件与承载板形成容纳气相沉积反应腔体的容纳室；承托件跨接于挡板组件的两侧且位于承载板的上方。本发明的气相沉积反应腔体的承载装置有效地保护了气相沉积反应腔体，避免气相沉积反应腔体因为夹持压力过大而破裂或者压力过小而滑落损坏，同时在承载装置进行下降放入清洗室的过程中，承载板的底部与清洗室底部发生接触，避免了气相沉积反应腔体的开口端与清洗室底部直接碰撞而发生损坏，从而降低了气相沉积反应腔体的损坏率。

技术领域

本发明属于半导体加工技术领域，具体涉及一种气相沉积反应腔体的承载装置及清洗系统。

背景技术

在外延反应炉装置中，通过在由石英钟罩组成的工艺腔室内部对硅晶圆进行气相沉积反应，以在硅晶圆表面上生长出一层薄膜。然而，在进行气相沉积的过程中，反应物不仅仅沉积在硅晶圆表面，还会沉积在石英钟罩内表面；如果长时间不清洗石英钟罩，会在石英钟罩内表面产生厚厚的一层膜，影响加热装置灯模块的透光性和反应气体的流动性，同时可能会在石英钟罩内表面产生颗粒，从而影响到硅晶圆的生长工艺，降低硅晶圆的良率。因此，对石英钟罩进行定期清理是硅晶圆加工过程中不可缺少的一个工艺。

现有对石英钟罩进行清洗的过程中，采用夹持装置夹持住石英钟罩的顶部进行升降，从而将石英钟罩放入清洗室中进行清洗，请参见图1，图1为现有技术提供的一种石英钟罩清洗装置的结构示意图，其中，夹持装置3通过夹持石英钟罩2的顶部4将石英钟罩2放置到清洗室1内进行清洗。

但是，石英钟罩2为易碎部件，而采用夹持装置3夹持石英钟罩2的顶部容易因施压过大导致石英钟罩2破裂或因施压过小导致石英钟罩2滑落摔坏，同时夹持装置3在下降过程中可能导致石英钟罩2的开口端与清洗室1底部发生碰撞而损坏，增加石英钟罩2的损坏率。另外，现有的石英钟罩2清洗往往在同一清洗室内进行混酸和去离子水清洗，无法保证石英钟罩2和清洗室1内部的混酸残留清洗干净，可能导致石英钟罩2清洗不够彻底。

发明内容

为了解决现有技术中存在的上述问题，本发明提供了一种气相沉积反应腔体的承载装置及清洗系统。本发明要解决的技术问题通过以下技术方案实现：

本发明实施例提供了一种气相沉积反应腔体的承载装置，包括：承载板、挡板组件和承托件，其中，

所述承载板上开设有第一开口；

所述挡板组件环绕于所述承载板的周向，以使所述挡板组件与所述承载板形成容纳所述气相沉积反应腔体的容纳室；

所述承托件跨接于所述挡板组件的两侧且位于所述承载板的上方，用于与外部设备相连接以对所述承载装置进行承托。

在本发明的一个实施例中，所述承载板和所述挡板组件上均开设有若干通孔，所述若干通孔在所述承载板和所述挡板组件上均匀分布。

在本发明的一个实施例中，所述承载板上设置有密封垫，所述密封垫呈环形设置以与所述气相沉积反应腔体开口端的边缘相匹配。

在本发明的一个实施例中，所述承载板上还设置有限位件，所述限位件设置于所述密封垫的侧边，以当所述气相沉积反应腔体放置于所述密封垫上时对所述气相沉积反应腔体进行固定。

在本发明的一个实施例中，所述挡板组件上开设有第二开口，以形成供所述气相沉积反应腔体进出所述容纳室的通道。

在本发明的一个实施例中，所述挡板组件包括第一挡板、第二挡板、第三挡板和第四挡板，其中，

所述第一挡板、所述第二挡板、所述第三挡板和所述第四挡板依次相接地环绕于所述承载板的周向；

其中，所述承托件跨接于所述第一挡板和所述第三挡板上，且所述第二开口开设在与所述承托件相对的所述第四挡板上。