[发明专利]一种气相沉积反应腔体的承载装置及清洗系统

权利要求书

1.一种气相沉积反应腔体的承载装置，其特征在于，包括：承载板(21)、挡板组件(22)和承托件(23)，其中，

所述承载板(21)上开设有第一开口(211)，所述第一开口(211)位于所述气相沉积反应腔体开口端的内部；

所述挡板组件(22)环绕于所述承载板(21)的周向，以使所述挡板组件(22)与所述承载板(21)形成容纳所述气相沉积反应腔体的容纳室；所述承载板(21)和所述挡板组件(22)上均开设有若干通孔；所述挡板组件(22)上开设有第二开口(221)，以形成供所述气相沉积反应腔体进出所述容纳室的通道；

所述挡板组件(22)包括第一挡板(222)、第二挡板(223)、第三挡板(224)和第四挡板(225)，其中，所述第一挡板(222)、所述第二挡板(223)、所述第三挡板(224)和所述第四挡板(225)依次相接地环绕于所述承载板(21)的周向；所述承托件(23)跨接于所述第一挡板(222)和所述第三挡板(224)上，且所述第二开口(221)开设在与所述承托件(23)相对的所述第四挡板(225)上；

所述承托件(23)跨接于所述挡板组件(22)的两侧且位于所述承载板(21)的上方，用于与外部设备相连接以对所述承载装置进行承托；

所述承托件(23)包括第一承托杆(231)、第二承托杆(232)和第三承托杆(233)，其中，所述第一承托杆(231)设置于所述第一挡板(222)和所述第二挡板(223)的相接处，与所述第一挡板(222)位于同一平面且向所述第四挡板(225)一侧倾斜；所述第二承托杆(232)设置于所述第二挡板(223)和所述第三挡板(224)的相接处，与所述第三挡板(224)位于同一平面且向所述第四挡板(225)一侧倾斜；所述第三承托杆(233)连接在所述第一承托杆(231)和所述第二承托杆(232)之间。

2.如权利要求1所述的气相沉积反应腔体的承载装置，其特征在于，所述若干通孔在所述承载板(21)和所述挡板组件(22)上均匀分布。

3.如权利要求1所述的气相沉积反应腔体的承载装置，其特征在于，所述承载板(21)上设置有密封垫(24)，所述密封垫(24)呈环形设置以与所述气相沉积反应腔体开口端的边缘相匹配。

4.如权利要求3所述的气相沉积反应腔体的承载装置，其特征在于，所述承载板(21)上还设置有限位件(25)，所述限位件(25)设置于所述密封垫(24)的侧边，以当所述气相沉积反应腔体放置于所述密封垫(24)上时对所述气相沉积反应腔体进行固定。

5.一种气相沉积反应腔体的清洗系统，其特征在于，包括至少两个清洗装置(31)、承载装置(20)和传送装置(32)，其中，

所述至少两个清洗装置(31)并列排布；

所述承载装置(20)采用如权利要求1~4中任一项所述的气相沉积反应腔体的承载装置；

所述传送装置(32)设置于所述清洗装置(31)的上方并通过所述承托件(23)对所述承载装置(20)承托。

6.如权利要求5所述的气相沉积反应腔体的清洗系统，其特征在于，所述清洗装置(31)包括清洗室(311)、若干液体喷淋头(312)和排液口(313)，其中，

所述清洗室(311)的底部从四周至中心逐渐凹陷，所述排液口(313)设置于所述清洗室(311)底部的中心位置处；

所述若干液体喷淋头(312)分布于所述清洗室(311)的底部；或者，所述若干液体喷淋头(312)分布于所述清洗室(311)的底部和所述清洗室(311)的内壁上。

7.如权利要求5所述的气相沉积反应腔体的清洗系统，其特征在于，所述传送装置(32)包括第一移动轴(321)和第二移动轴(322)，其中，

所述第一移动轴(321)与所述第二移动轴(322)相互垂直；

所述第一移动轴(321)可沿其轴向方向移动，以将承载有所述气相沉积反应腔体的所述承载装置(20)在所述清洗装置(31)的上方进行水平传输；

所述第二移动轴(322)与所述承载装置(20)连接，可沿其轴向方向移动，以将承载有所述气相沉积反应腔体的所述承载装置(20)在所述清洗装置(31)的上方进行升降。