[发明专利]输送装置、基板处理装置以及制造制品的方法有效
申请号: | 201911321342.2 | 申请日: | 2019-12-20 |
公开(公告)号: | CN111352307B | 公开(公告)日: | 2023-04-28 |
发明(设计)人: | 森国雄一朗 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 朱巧博 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 输送 装置 处理 以及 制造 制品 方法 | ||
本发明涉及输送装置、基板处理装置以及制造制品的方法。输送装置包括:第一可动设备,其在保持物体的同时移动;第二可动设备,其在保持物体的同时移动并且将物体转移至第一可动设备;和控制器,其控制第一可动设备和第二可动设备。第二可动设备包括引导构件、和布置成能够在保持物体的同时沿着引导构件往复运动的手构件。控制器基于第二可动设备的驱动历史来估计引导构件的与手构件沿着引导构件的往复运动相对应的热变形量,并且控制器基于所估计的热变形量来校正用于使第一可动设备移动至从第二可动设备接收物体的位置的驱动指令值。
技术领域
本发明涉及输送装置、基板处理装置以及制造制品的方法。
背景技术
输送物体的输送装置例如用于在基板上形成图案的诸如曝光装置之类的基板处理装置中。例如,在曝光装置中,输送装置将输送作为物体的基板或原稿。在曝光装置中,例如,基板被输送装置输送并被转移至基板台。由于在每次驱动操作中输送机构的驱动停止位置改变,因此输送机构将基板转移至基板台的位置不是恒定的。类似地,由于基板转移位置不是恒定的,因此基板与基板台之间的位置关系也不是恒定的。为了应对这种状态,日本专利特开No.2005-242743公开了一种使基板与保持器之间的位置关系恒定的技术。
特别地,在诸如曝光装置之类的基板处理装置中,需要进一步提高在要转移(要装载)诸如基板的物体时物体的定位精度。
发明内容
本发明提供了一种在要转移物体时物体的定位精度方面有利的技术。
本发明在其第一方面中提供了一种输送装置,其包括:第一可动设备,其构造成在保持物体的同时移动;第二可动设备,其构造成在保持物体的同时移动并将物体转移至第一可动设备;和控制器,其构造成控制第一可动设备和第二可动设备,其中第二可动设备包括引导构件、和布置成能够在保持物体的同时沿着引导构件往复运动的手构件,并且控制器基于第二可动设备的驱动历史而估计引导构件的与手构件沿着引导构件的往复运动相对应的热变形量,并且控制器基于所估计的热变形量来校正用于使第一可动设备移动到从第二可动设备接收物体的位置的驱动指令值。
本发明在其第二方面中提供了一种输送装置,其包括:第一可动设备,其构造成在保持物体的同时移动;第二可动设备,其构造成在保持物体的同时移动并且将物体转移至第一可动设备;和控制器,其构造成控制第一可动设备和第二可动设备,其中第二可动设备包括引导构件、和布置成能够在保持物体的同时沿着引导构件往复运动的手构件,并且控制器基于第二可动设备的驱动历史来估计引导构件的与手构件沿引导构件的往复运动相对应的热变形量,并且基于所估计的热变形量来校正用于使手构件移动到将物体转移至第一可动设备的位置的驱动指令值。
本发明在其第三方面中提供了一种基板处理装置,其在基板上形成图案,基板处理装置包括在第一方面中限定的输送装置,其中,物体是基板,并且第一可动设备是构造成在保持基板的同时移动的基板台。
本发明在其第四方面中提供了一种基板处理装置,其使用原稿以在基板上形成图案,基板处理装置包括在第一方面中限定的输送装置,其中物体是原稿,并且第一可动设备是构造成在保持原稿的同时移动的原稿台。
本发明在其第五方面中提供了一种制造制品的方法,所述方法包括通过使用在第三方面中限定的基板处理装置在基板上形成图案、以及处理已经形成有图案的基板,其中制品由处理后的基板制造。
本发明在其第六方面中提供了一种制造制品的方法,所述方法包括通过使用在第四方面中限定的基板处理装置在基板上形成图案、以及处理已经形成有图案的基板,其中制品由处理后的基板制造。
通过下文对示例性实施例的描述(参考附图),本发明的其他特征将变得显而易见。
附图说明
图1是示出了根据第一实施例的曝光装置的布置的示意图;
图2是根据第一实施例的曝光装置的主要部分的平面图;
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