[发明专利]包括散热构件的沉积设备在审
| 申请号: | 201911270236.6 | 申请日: | 2019-12-11 |
| 公开(公告)号: | CN111304636A | 公开(公告)日: | 2020-06-19 |
| 发明(设计)人: | 朴钟镐;潘淑焕;宋鎭伍;兪炯硕 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/455;C23C16/50 |
| 代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 张晓;陈亚男 |
| 地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 包括 散热 构件 沉积 设备 | ||
1.一种沉积设备,所述沉积设备包括:
腔室;
沉积源,包括沉积材料;
工作台,设置在所述腔室中,在所述工作台上安装有目标物体;
第一板,结合到所述腔室以限定空间;
第二板,设置在所述第一板与所述工作台之间,其中,所述第二板包括设置在所述第二板中的多个扩散孔;
散热构件,与所述第一板和所述第二板接触,其中,所述散热构件包括多个侧壁部,其中,所述多个侧壁部彼此连接以形成包围所述第一板和所述第二板的外侧表面的框架形状;以及
垫片,结合到所述多个侧壁部的第一侧壁部,并且设置在所述第一板与所述第二板之间,其中,所述垫片平行于所述第一侧壁部而延伸,
其中,所述垫片的延伸长度比所述第一侧壁部的延伸长度短。
2.如权利要求1所述的沉积设备,其中,所述垫片设置在所述第一侧壁部的中心区域中。
3.如权利要求1所述的沉积设备,其中,所述垫片与所述第一板和所述第二板直接接触。
4.如权利要求1所述的沉积设备,其中,所述第二板包括第一侧边和第二侧边,所述第一侧边彼此面对并在第一方向上延伸,所述第二侧边彼此面对并在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸,
其中,所述垫片是多个垫片,
其中,所述多个垫片包括:第一垫片,沿所述第一侧边延伸并且彼此面对;以及第二垫片,沿所述第二侧边延伸并且彼此面对,并且
其中,所述第二垫片中的每个第二垫片的延伸长度比所述第一垫片中的每个第一垫片的延伸长度短。
5.如权利要求4所述的沉积设备,其中,所述第一垫片中的每个第一垫片的延伸长度与所述第二板的所述第一侧边的长度的比率在60%至70%的范围内。
6.如权利要求4所述的沉积设备,其中,所述第二垫片中的每个第二垫片的延伸长度与所述第二板的所述第二侧边的长度的比率在20%至30%的范围内。
7.如权利要求1所述的沉积设备,其中,所述第二板包括:
扩散部,包括所述多个扩散孔;以及
外围部,包围所述扩散部,其中,所述垫片设置在所述外围部上。
8.如权利要求1所述的沉积设备,其中,所述散热构件还包括多个底部,其中,所述多个底部中的每个从所述多个侧壁部中的每个侧壁部的底端弯曲,并且设置在所述第二板下方,并且
所述多个侧壁部中的每个包括:第一部分,包括连接到所述第一板的内侧表面;第二部分,结合到所述第一部分的底端,并且包括结合到所述垫片的内侧表面;以及第三部分,将所述第二部分的底端连接到所述散热构件的所述底部,其中,所述第三部分的内侧表面连接到所述第二板。
9.如权利要求1所述的沉积设备,其中,所述第二板和所述散热构件是单个物体。
10.如权利要求1所述的沉积设备,所述沉积设备还包括电压发生器,所述电压发生器电连接到所述第二板并且被构造为向所述第二板提供电压以在所述第二板与所述工作台之间产生电场。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





