[发明专利]一种基于规则的曝光补偿方法

说明书

一种基于规则的曝光补偿方法，包括以下步骤：1）确定需要曝光补偿的版图设计单元；2）确定版图设计单元中的工艺层；3）设定关键尺寸规则；4）设置补偿图形的bias值，并创建补偿图形；5）倒角处理。本发明将版图工程师进行曝光补偿的过程自动化，提供设计的准确度并极大提升版图绘制效率。

技术领域

本发明涉及平板显示器版图设计技术领域，特别涉及一种对于版图数据的曝光补偿修正方法，具体涉及一种平板显示器版图设计中基于规则的曝光补偿方法。

背景技术

在版图设计完成后需要对局部图形宽度进行补偿。在生产中，曝光和刻蚀都会导致最终生产出来的某些图形的宽度比设计宽度要小，在图形间距大于最小工艺间距时，这种现象尤其严重，直接导致占空比小的地方图形的宽度小太多，影响良率。

在面板设计领域，由于窄边框面板的应用需求，面板设计中给COG台阶留下的宽度越来越小。因此，布线的宽度必须要突破曝光机最小线宽的限制。但是当CD值小于曝光机最小线宽时，在占空比较小的区域，布线宽度被侵蚀更严重，发生实际生产所得宽度比设计宽度小得多或者断线的问题，其原因在于：

1）在占空比较小的区域，曝光时由于曝光量过大，导致path（路径）宽度减小；

2）在占空比较小的区域，刻蚀时因path受到的刻蚀力度相对更大，导致path宽度进一步减小。

在液晶面板领域，当前面板版图设计工程师面对以上问题，主要采用人工矫正的方式对版图进行修正，效率低下，可复用性差。而在IC设计领域，存在一些OPC（光学临近矫正）软件应用于晶圆制造工艺，利用大量的光学实验数据或模拟工具提取复杂规则或建立模型，对掩模图形进行优化校正。但是面板设计领域往往无需如此高的设计规格和精度要求，采用这种OPC软件对于面板厂来说成本较高。

发明内容

为了解决现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种基于规则的曝光补偿方法，将版图工程师进行曝光补偿的过程自动化，提供设计的准确度并极大提升版图绘制效率。

为实现上述目的，本发明提供的基于规则的曝光补偿方法，包括以下步骤：

1）确定需要曝光补偿的版图设计单元；

2）确定版图设计单元中的工艺层；

3）设定关键尺寸规则；

4）设置补偿图形的bias值，并创建补偿图形；

5）对补偿图形进行倒角处理；

6）将倒角处理后的补偿图形与原图形轮廓合并。

进一步地，所述步骤1）通过指定需要曝光补偿的设计单元名称来确定需要曝光补偿的版图设计单元，其中所述设计单元名称包括库名、单元名和视图名。

进一步地，需要进行曝光补偿的图形存在于所述步骤2）确定的所述工艺层中。

进一步地，在所述步骤3）中设定关键尺寸规则时，需设定关键尺寸，包括最小间距和最小宽度，其中，

最小间距指的是轮廓图形间的最小距离；

最小宽度指的是轮廓图形的最小宽度。

进一步地，所述步骤3）进一步包括以下步骤：

判断版图中的图形与相邻图形轮廓之间的距离与最小间距的关系，如果版图中的图形与相邻图形轮廓之间的距离大于最小间距时，则需判断版图中的图形的轮廓上的宽度是否大于最小宽度，如果版图中的图形的轮廓上的宽度小于最小宽度，则需补偿这部分轮廓；如果版图中的图形的轮廓上的宽度大于或等于最小宽度，则不进行补偿操作；

如果版图中的图形与相邻图形轮廓之间的距离小于或等于最小间距时，则无需补偿。