[发明专利]一种基于规则的曝光补偿方法

权利要求书

1.一种基于规则的曝光补偿方法，其特征在于，包括以下步骤：

1）确定需要曝光补偿的版图设计单元；

2）确定版图设计单元中的工艺层；

3）设定关键尺寸规则，设定关键尺寸，包括最小间距和最小宽度，其中，最小间距指的是轮廓图形间的最小距离；最小宽度指的是轮廓图形的最小宽度；

4）设置补偿图形的bias值，并创建补偿图形；

5）对补偿图形进行倒角处理；

6）将倒角处理后的补偿图形与原图形轮廓合并；

其中所述步骤3）进一步包括以下步骤：

判断版图中的图形与相邻图形轮廓之间的距离与最小间距的关系，如果版图中的图形与相邻图形轮廓之间的距离大于最小间距时，则需判断版图中的图形的轮廓上的宽度是否大于最小宽度，如果版图中的图形的轮廓上的宽度小于最小宽度，则需补偿这部分轮廓；如果版图中的图形的轮廓上的宽度大于或等于最小宽度，则不进行补偿操作；

如果版图中的图形与相邻图形轮廓之间的距离小于或等于最小间距时，则无需补偿。

2.根据权利要求1所述的基于规则的曝光补偿方法，其特征在于，所述步骤1）进一步包括，通过指定需要曝光补偿的设计单元名称来确定需要曝光补偿的版图设计单元；其中，所述设计单元名称包括库名、单元名和视图名。

3.根据权利要求1所述的基于规则的曝光补偿方法，其特征在于，所述步骤4）中设置补偿的bias值，用于指定补偿后相对原图形增加的宽度。

4.根据权利要求3所述的基于规则的曝光补偿方法，其特征在于，所述步骤4）进一步包括，以需要补偿的轮廓为中线，创建一个宽度为2×bias的路径图形，其中所述路径图形与原图形使用同一个工艺层。

5.根据权利要求1所述的基于规则的曝光补偿方法，其特征在于，在所述步骤5），包括，设置倒角参数，其为角度值，并在补偿图形的端部进行倒角处理。

6.一种基于规则进行曝光补偿的装置，其特征在于，包括存储器和处理器，所述存储器上储存有在所述处理器上运行的程序，所述处理器运行所述程序时执行权利要求1-5任一项所述的基于规则的曝光补偿方法的步骤。

7.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机指令，其特征在于，所述计算机指令运行时执行权利要求1-5任一项所述的基于规则的曝光补偿方法的步骤。