[发明专利]一种金属电极的制备方法在审
| 申请号: | 201911256841.8 | 申请日: | 2019-12-10 |
| 公开(公告)号: | CN111128702A | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
| 发明(设计)人: | 赵金阳 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/28 | 分类号: | H01L21/28;H01L21/288 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 远明 |
| 地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 金属电极 制备 方法 | ||
1.一种金属电极的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
提供基板;
采用喷墨打印技术在所述基板上形成预设图案的金属有机层;其中,所述金属有机层的材料包括金属有机物;
采用等离子体技术对所述金属有机层进行处理,以使所述金属有机层中的金属有机物转化为相应的金属,形成预设图案的金属电极。
2.如权利要求1所述的金属电极的制备方法,其特征在于,所述采用喷墨打印技术在所述基板上形成预设图案的金属有机层,包括以下步骤:
通过喷墨头将金属墨水按照预设轨迹打印在所述基板上;所述金属墨水的材料包括金属有机物和溶剂;
对打印后的基板进行加热,以去除所述基板上的金属墨水中的溶剂,形成预设图案的金属有机层。
3.如权利要求1所述的金属电极的制备方法,其特征在于,所述采用等离子体技术对所述金属有机层进行处理,以使所述金属有机层中的金属有机物转化为相应的金属,包括以下步骤:
采用氧气等离子体对所述金属有机层进行处理,以使所述金属有机层中的金属有机物分解形成对应的金属以及所述金属的氧化物;
采用氢气等离子体对经过所述氧气等离子体处理后的金属有机层进行处理,以使所述金属的氧化物还原形成所述金属。
4.如权利要求3所述的金属电极的制备方法,其特征在于,所述采用氧气等离子体对所述金属有机层进行处理,以使所述金属有机层中的金属有机物分解形成对应的金属以及所述金属的氧化物,包括以下步骤:
将形成有所述金属有机层的基板置于真空腔室中;
向所述真空腔室中提供氧气等离子体;
通过所述氧气等离子体将所述金属有机层中的金属有机物分解形成对应的金属以及所述金属的氧化物。
5.如权利要求4所述的金属电极的制备方法,其特征在于,所述采用氢气等离子体对经过所述氧气等离子体处理后的金属有机层进行处理,以使所述金属的氧化物还原形成所述金属,包括以下步骤:
停止向所述真空腔室中提供所述氧气等离子体;
向所述真空腔室中提供氢气等离子体;
通过所述氢气等离子体将所述金属的氧化物还原形成所述金属。
6.如权利要求5所述的金属电极的制备方法,其特征在于,所述真空腔室包括入口和出口,所述氧气等离子体和所述氢气等离子体从所述入口进入所述真空腔室内,所述氧气等离子体分解所述金属有机物时还形成有机气体,所述有机气体从所述出口排出。
7.如权利要求1所述的金属电极的制备方法,其特征在于,所述采用喷墨打印技术在所述基板上形成预设图案的金属有机层之前,还包括以下步骤:
采用疏水材料对所述基板的待打印表面进行疏水处理;所述疏水材料包括全氟硅烷。
8.如权利要求1所述的金属电极的制备方法,其特征在于,所述金属电极包括铜电极,所述金属有机物包括铜基金属有机物和表面包覆有机物的铜微纳米颗粒中的至少一种。
9.如权利要求1所述的金属电极的制备方法,其特征在于,所述金属电极包括银电极,所述金属有机物包括表面包覆有机物的银微纳米颗粒。
10.如权利要求1所述的金属电极的制备方法,其特征在于,所述基板包括玻璃基板、硅片基板和柔性基板中的任意一种。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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