[发明专利]太阳能电池组件的制备方法有效
申请号: | 201911244978.1 | 申请日: | 2019-12-06 |
公开(公告)号: | CN112928175B | 公开(公告)日: | 2023-02-10 |
发明(设计)人: | 郭凯;赵剑;张传升;韩青树 | 申请(专利权)人: | 重庆神华薄膜太阳能科技有限公司;中国节能减排有限公司 |
主分类号: | H01L31/0392 | 分类号: | H01L31/0392;H01L31/046;H01L31/18 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 吴大建;康志梅 |
地址: | 404100 重庆*** | 国省代码: | 重庆;50 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能电池 组件 制备 方法 | ||
1.一种太阳能电池组件的制备方法,其包括:
步骤A:在玻璃基底上制备钼层;
步骤B:对所述钼层进行第一次刻划,形成第一道刻线(P1),并且第1个子电池与(n/2)+1电池的钼层保持连接,第n/2个子电池与第n个子电池连接,其中,n为子电池的总数,且n为偶数;
步骤C:在完成第一次刻划的钼层上依次制备铜铟镓硒层、硫化镉层和本征氧化锌层;
步骤D:在所述本征氧化锌层上进行第二次刻划,将本征氧化锌层、硫化镉层以及铜铟镓硒层同时刻断,露出钼层,形成第二道刻线(P2),所述第二道刻线(P2)与第一道刻线(P1)保持平行;
步骤E:在完成第二次刻划后的本征氧化锌层上制备掺铝氧化锌层;
步骤F:在所述掺铝氧化锌层上进行第三次刻划,将掺铝氧化锌层、本征氧化锌层、硫化镉层以及铜铟镓硒层同时刻断,露出钼层,形成第三道刻线(P3),从而完成太阳能电池组件子电池的内联,所述第三道刻线(P3)和第一道刻线(P1)、第二道刻线(P2)保持平行;
步骤G:进行第四次刻划,在第n/2子电池右侧沿第三道刻线(P3)刻划形成刻线M。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述方法还包括:在步骤B中,还对钼层进行清边处理,和/或
在步骤G中,还对第三次刻划之后的太阳能电池组件进行清边处理,将电池区域外边缘的掺铝氧化锌层、本征氧化锌层、硫化镉层以及铜铟镓硒层同时清除,露出钼层。
3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述第一道刻线(P1)一直刻划到玻璃基底表面,使第一道刻线(P1)两侧的子电池完全绝缘;和/或
所述第二道刻线(P2)将本征氧化锌层、硫化镉层以及铜铟镓硒层完全刻断,露出钼层,并且不损伤钼层表面;和/或
所述第三道刻线(P3)将掺铝氧化锌层、本征氧化锌层、硫化镉层、以及铜铟镓硒层完全刻断,露出钼层,并且不损伤钼层表面。
4.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述第一道刻线(P1)的宽度为50-200微米;和/或所述第二道刻线(P2)的宽度为50-200微米;和/或所述第三道刻线的宽度为50-200微米;和/或所述刻线M的宽度为50-200微米。
5.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述第一道刻线(P1)与第二道刻线(P2)的间隔为100-500微米,所述第二道刻线(P2)与所述第三道刻线(P3)的间隔为100-500微米。
6.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,在步骤A中,所述钼层厚度为300纳米-1200纳米;和/或
在步骤C中,所述铜铟镓硒层厚度为1.0-3.0微米;所述硫化镉层厚度为30-80纳米;所述本征氧化锌膜层厚度为30-80纳米;和/或
在步骤E中,所述掺铝氧化锌膜层厚度为300-1000纳米。
7.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述第一次刻划、第二次刻划和第三次刻划采用机械刻划或激光刻划。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述第一次刻划、第二次刻划和第三次刻划采用激光刻划。
9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述第一次刻划、第二次刻划和第三次刻划采用选自1064nm、532nm和355nm中的至少一种波长进行激光刻划。
10.一种根据权利要求1-9中任一项所述的制备方法得到的太阳能电池组件,其特征在于,所述太阳能电池组件包括两个并联的子电池。
11.根据权利要求10所述的太阳能电池组件,其特征在于,所述太阳能电池组件为铜铟镓硒薄膜太阳能电池组件。
12.一种根据权利要求1-9中任一项所述的制备方法得到的太阳能电池组件或根据权利要求10或11所述的太阳能电池组件在光伏产业中的应用。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆神华薄膜太阳能科技有限公司;中国节能减排有限公司,未经重庆神华薄膜太阳能科技有限公司;中国节能减排有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911244978.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的