[发明专利]太阳能电池组件的制备方法有效

专利信息
申请号: 201911244978.1 申请日: 2019-12-06
公开(公告)号: CN112928175B 公开(公告)日: 2023-02-10
发明(设计)人: 郭凯;赵剑;张传升;韩青树 申请(专利权)人: 重庆神华薄膜太阳能科技有限公司;中国节能减排有限公司
主分类号: H01L31/0392 分类号: H01L31/0392;H01L31/046;H01L31/18
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;康志梅
地址: 404100 重庆*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 组件 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种太阳能电池组件的制备方法,其包括:

步骤A:在玻璃基底上制备钼层;

步骤B:对所述钼层进行第一次刻划,形成第一道刻线(P1),并且第1个子电池与(n/2)+1电池的钼层保持连接,第n/2个子电池与第n个子电池连接,其中,n为子电池的总数,且n为偶数;

步骤C:在完成第一次刻划的钼层上依次制备铜铟镓硒层、硫化镉层和本征氧化锌层;

步骤D:在所述本征氧化锌层上进行第二次刻划,将本征氧化锌层、硫化镉层以及铜铟镓硒层同时刻断,露出钼层,形成第二道刻线(P2),所述第二道刻线(P2)与第一道刻线(P1)保持平行;

步骤E:在完成第二次刻划后的本征氧化锌层上制备掺铝氧化锌层;

步骤F:在所述掺铝氧化锌层上进行第三次刻划,将掺铝氧化锌层、本征氧化锌层、硫化镉层以及铜铟镓硒层同时刻断,露出钼层,形成第三道刻线(P3),从而完成太阳能电池组件子电池的内联,所述第三道刻线(P3)和第一道刻线(P1)、第二道刻线(P2)保持平行;

步骤G:进行第四次刻划,在第n/2子电池右侧沿第三道刻线(P3)刻划形成刻线M。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,所述方法还包括:在步骤B中,还对钼层进行清边处理,和/或

在步骤G中,还对第三次刻划之后的太阳能电池组件进行清边处理,将电池区域外边缘的掺铝氧化锌层、本征氧化锌层、硫化镉层以及铜铟镓硒层同时清除,露出钼层。

3.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述第一道刻线(P1)一直刻划到玻璃基底表面,使第一道刻线(P1)两侧的子电池完全绝缘;和/或

所述第二道刻线(P2)将本征氧化锌层、硫化镉层以及铜铟镓硒层完全刻断,露出钼层,并且不损伤钼层表面;和/或

所述第三道刻线(P3)将掺铝氧化锌层、本征氧化锌层、硫化镉层、以及铜铟镓硒层完全刻断,露出钼层,并且不损伤钼层表面。

4.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述第一道刻线(P1)的宽度为50-200微米;和/或所述第二道刻线(P2)的宽度为50-200微米;和/或所述第三道刻线的宽度为50-200微米;和/或所述刻线M的宽度为50-200微米。

5.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述第一道刻线(P1)与第二道刻线(P2)的间隔为100-500微米,所述第二道刻线(P2)与所述第三道刻线(P3)的间隔为100-500微米。

6.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,在步骤A中,所述钼层厚度为300纳米-1200纳米;和/或

在步骤C中,所述铜铟镓硒层厚度为1.0-3.0微米;所述硫化镉层厚度为30-80纳米;所述本征氧化锌膜层厚度为30-80纳米;和/或

在步骤E中,所述掺铝氧化锌膜层厚度为300-1000纳米。

7.根据权利要求1或2所述的制备方法,其特征在于,所述第一次刻划、第二次刻划和第三次刻划采用机械刻划或激光刻划。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述第一次刻划、第二次刻划和第三次刻划采用激光刻划。

9.根据权利要求8所述的制备方法,其特征在于,所述第一次刻划、第二次刻划和第三次刻划采用选自1064nm、532nm和355nm中的至少一种波长进行激光刻划。

10.一种根据权利要求1-9中任一项所述的制备方法得到的太阳能电池组件,其特征在于,所述太阳能电池组件包括两个并联的子电池。

11.根据权利要求10所述的太阳能电池组件,其特征在于,所述太阳能电池组件为铜铟镓硒薄膜太阳能电池组件。

12.一种根据权利要求1-9中任一项所述的制备方法得到的太阳能电池组件或根据权利要求10或11所述的太阳能电池组件在光伏产业中的应用。

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