[发明专利]一种晶圆清洗液回收设备在审
| 申请号: | 201911240106.8 | 申请日: | 2019-12-06 |
| 公开(公告)号: | CN110931394A | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
| 发明(设计)人: | 王挺 | 申请(专利权)人: | 王挺 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 清洗 回收 设备 | ||
本发明公开了一种晶圆清洗液回收设备,其结构包括移动回收装置、遮挡器、导流器、转盘、转轴、电机、推动装置,转盘底部与转轴相连接,转轴底部与设在导流器内的电机相连接,导流器的左侧设有遮挡器,移动回收装置安装在导流器下方,动回收槽与推动装置活动连接,导流器包括侧板、倾斜板、围板、底板,围板底部与底板相连接,围板的两端分别连接有侧板,倾斜板与底板、围板相连接,移动回收装置包括滑轨、回收槽、输出管、隔板、支板,本发明的有益效果是:通过设计能够使清洗液直接流到相应的回收槽,且不会出现溅出或漏水的现象,且能够通过PH值来判断清洗液的类型自动调节回收槽的位置,更加智能。
技术领域
本发明涉及晶圆加工领域,具体地说是一种晶圆清洗液回收设备。
背景技术
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片,由于其形状为圆形,故称为晶圆;在硅晶片上可加工制作成各种电路元件结构,而成为有特定电性功能的集成电路产品。
现有的专利号为201711167935.9的的晶圆清洗液回收装置,包括回收单元、升降单元和排放单元,所述回收单元包括多个沿竖直方向连续设置的环形回收槽;升降单元,所述升降单元用于控制所述回收单元沿竖直方向进行移动,从而将所述回收单元上的多个所述回收槽分别用于对不同的晶圆清洗液进行回收;排放单元,所述排放单元包括多个排放管,多个所述排放管分别与多个所述回收槽的内部相通连接。通过使用本发明所述的晶圆清洗液回收装置,能够有效的对各种晶圆清洗液进行单独收集和排放,降低了各种清洗液之间发生化学反应的可能性,减少了对排放管造成的损坏,有效的提高了排放管的使用寿命和安全性,但该发明在分类回收时还是会出现漏水的现象,分类回收不彻底,且需要人工确定清洗液的类型,较为麻烦。
发明内容
本发明的主要目的在于克服现有技术的不足,提供一种晶圆清洗液回收设备。
本发明采用如下技术方案来实现:一种晶圆清洗液回收设备,其结构包括移动回收装置、遮挡器、导流器、转盘、转轴、电机、推动装置,所述转盘底部与转轴相连接,所述转轴底部与设在导流器内的电机相连接,所述导流器的左侧设有遮挡器,所述移动回收装置安装在导流器下方,所述动回收槽与推动装置活动连接。
作为优化,所述导流器包括侧板、倾斜板、围板、底板,所述围板底部与底板相连接,所述围板的两端分别连接有侧板,所述倾斜板与底板、围板相连接。
作为优化,所述移动回收装置包括滑轨、回收槽、输出管、隔板、支板,所述回收槽底部安装在滑轨上,所述回收槽内部设有2个隔板将回收槽分隔成3格,3格底部分别与输出管连通,所述回收槽侧面设有3个支板。
作为优化,所述推动装置包括PH值检测器、电机罩、微电机、转杆、叶片,所述PH值检测器安装在倾斜板上,所述PH值检测器与微电机通过电连接,所述微电机安装在电机罩内,所述电机罩连接在导流器外侧,所述微电机与设在底部的转杆相连接,所述转杆侧面连接有叶片。
作为优化,所述遮挡器包括导轨、下降板、重力条,所述下降板安装在导轨内,所述下降板底部嵌有重力条,所述重力条与回收槽顶部相接触。
作为优化,所述回收槽底部为倾斜状,较低的一侧与输出管连通。
作为优化,所述叶片为月亮状。
作为优化,所述回收槽底部为金属材质。
作为优化,所述滑轨内部为永磁铁制成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





