[发明专利]OLED显示面板及其制造方法、OLED显示器有效

专利信息
申请号: 201911226778.3 申请日: 2019-12-04
公开(公告)号: CN111063831B 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 邴一飞 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 张晓薇
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: oled 显示 面板 及其 制造 方法 显示器
【说明书】:

本申请公开一种OLED显示面板及其制造方法、OLED显示器。所述OLED显示面板的制造方法包括:提供衬底基板;在衬底基板上形成阳电极和像素定义层,像素定义层围绕形成呈阵列排布的第一凹槽、第二凹槽和第三凹槽,该像素定义层包括第一堤坝、第二堤坝和第三堤坝,第一堤坝和第二堤坝的高度均大于第三堤坝的高度,第一堤坝位于第一凹槽和第二凹槽之间,第二堤坝位于第一凹槽和第三凹槽之间,第三堤坝位于第二凹槽和第三凹槽之间;通过喷墨打印在三个凹槽中分别形成有机发光层;依次形成覆盖有机发光层和像素定义层的电子传输层和阴电极。基于此,本申请能够在采用喷墨打印制备有机发光层时防止墨水混合,有利于改善发光不良。

技术领域

本申请涉及显示领域,特别涉及一种OLED(Organic Light-Emitting Diode,有机发光二极管)显示面板及其制造方法、OLED显示器。

背景技术

喷墨打印工艺是制备OLED显示面板的重要工艺手段,然而由于OLED器件每种颜色需要的发光材料和膜层厚度不同以及喷墨打印的制程特殊性,往往会发生不同发光材料墨水混合的现象,从而使得OLED显示面板出现像素发光颜色发生偏移及混色等发光不良的问题。

发明内容

有鉴于此,本申请提供一种OLED显示面板及其制造方法、OLED显示器,以解决在采用喷墨打印制备有机发光层时相邻像素区的不同颜色墨水混合所导致的发光不良的问题。

本申请提供的OLED显示面板的制造方法,包括:

提供衬底基板;

在所述衬底基板上形成阳电极和像素定义层,所述像素定义层围绕形成呈阵列排布的多个凹槽,所述阳电极一一位于所述凹槽中,所述多个凹槽包括若干第一凹槽、若干第二凹槽和若干第三凹槽,所述像素定义层包括第一堤坝、第二堤坝和第三堤坝,所述第一堤坝和第二堤坝的高度均大于所述第三堤坝的高度,所述第一堤坝位于所述第一凹槽和第二凹槽之间,所述第二堤坝位于所述第一凹槽和第三凹槽之间,所述第三堤坝位于所述第二凹槽和第三凹槽之间;

通过喷墨打印将溶有第一有机发光材料的墨水滴入所述第一凹槽中并成膜形成第一有机发光层,将溶有第二有机发光材料的墨水滴入所述第二凹槽中并成膜形成第二有机发光层,以及将溶有第三有机发光材料的墨水滴入所述第三凹槽中并成膜形成第三有机发光层;

形成覆盖所述第一有机发光层、第二有机发光层、第三有机发光层以及所述像素定义层的电子传输层;

形成覆盖所述电子传输层的阴电极。

可选地,第一堤坝和第二堤坝的倾斜角相等且均大于所述第三堤坝的倾斜角。

可选地,所述衬底基板表面具有亲水性,所述第一堤坝、第二堤坝和第三堤坝表面均具有疏水性。

可选地,所述第一堤坝和第二堤坝的高度相等。

本申请提供的一种OLED显示面板,包括:

衬底基板;

阳电极和像素定义层,位于所述衬底基板上,所述像素定义层围绕形成呈阵列排布的多个凹槽,所述阳电极一一位于所述凹槽中,所述多个凹槽包括若干第一凹槽、若干第二凹槽和若干第三凹槽,所述像素定义层包括第一堤坝、第二堤坝和第三堤坝,所述第一堤坝和第二堤坝的高度均大于所述第三堤坝的高度,所述第一堤坝位于所述第一凹槽和第二凹槽之间,所述第二堤坝位于所述第一凹槽和第三凹槽之间,所述第三堤坝位于所述第二凹槽和第三凹槽之间;

有机发光层,包括第一有机发光层、第二有机发光层和第三有机发光层,所述第二有机发光层和第三有机发光层的厚度相等且均小于第一有机发光层的厚度,所述第一有机发光层位于第一凹槽中,所述第二有机发光层位于第二凹槽中,所述第三有机发光层位于第三凹槽中;

电子传输层,覆盖于所述第一有机发光层、第二有机发光层、第三有机发光层以及所述像素定义层上;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911226778.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top