[发明专利]一种新型热敏电阻的制备工艺在审

专利信息
申请号: 201911223048.8 申请日: 2019-12-03
公开(公告)号: CN111029067A 公开(公告)日: 2020-04-17
发明(设计)人: 黄蝉;陈洁亮;廖强 申请(专利权)人: 欣强电子(清远)有限公司
主分类号: H01C7/02 分类号: H01C7/02;H01C7/04
代理公司: 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 代理人: 李朦
地址: 511500 广东省清远市清远*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 热敏电阻 制备 工艺
【说明书】:

发明公开了涉及热敏电阻制备工艺技术领域,具体是一种新型热敏电阻的制备工艺,解决了由于板材脆弱导致传统工艺无法胜任,合格率低下的问题,包括以下工序:退镍、内层涂布、打靶、压合、钻孔、电镀、负片干膜&酸性、防焊、文字、成型和检测入库。本发明工艺流程简单有序,将打靶工序提前至压合工序的前面,同时开设有试钻孔,通过试钻孔的测试可以对钻孔设备的转速、进刀和退刀的参数进行调整,方便钻孔可以有序进行,避免钻孔时因参数问题整个板材损坏的问题,提高了钻孔的合格率,节约了成本浪费,在钻孔处通过化学镀铜的方式镀上铜层,可以提升钻孔处的强度,解决了材料脆,热容及铆钉时容易折断的问题。

技术领域

本发明涉及热敏电阻制备工艺技术领域,具体是一种新型热敏电阻的制备工艺。

背景技术

国内电子产品逐渐变大,各类产品变化多端,随着5G时代的到来,电子元件的需求更加庞大,质量管控更加严格,比如热敏电阻。

但是热敏电阻由于材料的特殊性不透光(材料颜色为黑色),材料脆,易折断,采用传统工艺生产容易因材料问题导致板材受损合格率低下的问题,不仅效率低,还会因不良品太多导致成本增加。因此,本领域技术人员提供了一种新型热敏电阻的制备工艺,以解决上述背景技术中提出的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种新型热敏电阻的制备工艺,以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种新型热敏电阻的制备工艺,包括以下工序:

S1、退镍:

选用表面存有3-5um镍厚的基板,将基板放入环保退镍水中浸泡,再通过清水清洗后干燥处理。

S2、内层涂布:利用图形转移原理制成内层线路。

S3、打靶:根据产品需要将基板放入打靶孔机中进行打靶孔处理,同时在合适的位置开出试钻孔。

S3、压合:将基板进行叠构,然后压合。

S4、钻孔:利用钻孔机将钻头高速旋转,形成穿切力,在压合后的板材上钻出所需的孔洞。

S5、电镀:在钻孔处通过化学镀铜的方式镀上铜层,使得层与层之间得以导通。

S6、负片干膜&酸性:在已作完钻孔的电镀板子上,压上干膜,利用曝光机透过底片将所需图像转移至干膜上,再将图像通过显影、化学蚀刻、去膜作出所需图像线路,最后利用A.O.I(自动光学检验)作线路检修,完成外层线路制作。

S7、防焊:在线路上通过丝印油墨、曝光、显影制作出图像。

S8、文字:根据客户需求,在板内印出客户需求的文字。

S9、成型:对PCB板表面进行处理,同时根据客户要求分切成不同大小、形状。

S10、检测入库:对成品件进行检测,合格后包装入库。

作为本发明再进一步的方案:所述S1工序中环保退镍水的温度保持在25±3℃,浸泡时间控制在10-15s。

作为本发明再进一步的方案:所述S2工艺中的内层线路采用曝光机透过底片将所需图像转移至基板上,再将图像通过显影、化学蚀刻、去膜作出所需图像线路,最后利用A.O.I(自动光学检验)作线路检修,完成内层线路制作。

作为本发明再进一步的方案:所述S4工序中在正式钻孔前,需要通过预留的试钻孔进行钻孔试验。

作为本发明再进一步的方案:所述S4工序中的钻针采用金刚钻针。

作为本发明再进一步的方案:所述S7工序中的温度不得高于125℃。

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