[发明专利]一种自动化研磨清洗线

说明书

本发明公开了一种自动化研磨清洗线，包括上料装置、第一研磨清洁段、第二研磨清洁段、二转一分料段及清洗烘干下料段，其中，上述第一研磨清洁段及第二研磨清洁段依次设置，形成研磨清洁部分；上料装置及二转一分料段分别设置于研磨清洁部分的前后两端；上述清洗烘干下料段设置于二转一分料段的后侧。本发明实现了物料自动上料运输过程中同步完成检测、清洁及导向校正，具备物料一转二上料及二转一下料功能，通过双研磨工位有效提升了产能，集成有研磨后毛刷物理清洁、液体冲洗、二流体清洁及烘干功能，有效保证了清洁质量。

技术领域

本发明涉及自动化制造领域，特别指一种自动化研磨清洗线。

背景技术

平板显示器件是实现文字和图像显示的人机交互载体，主要由显示模组、背光模组和触控模组组成，其中显示模组又由显示面板、偏光片、驱动芯片IC、电路板PCB和FPC等部件组成。平板显示器件的生产分为前段阵列、成盒工序和后段模组组装工序。前段工序用于生产显示面板，后段工序用于将显示面板、偏光片、背光模组、触控模组等部件组装为平板显示器件。前段工序生产设备目前主要由日本、韩国和美国企业提供，国内基本不能自产；后段工序生产设备中，国内少数企业已实现突破，目前正逐步实现对进口设备的替代。显示面板是实现显示功能的主要部件，为组装成显示器件，需要在面板两侧贴附偏光片LCD面板需要在上下两侧各贴附一张偏光片，OLED面板需在上方贴附一张偏光片以实现光线的定向传播。

偏光片贴合之前需要对贴附基片的表面进行清洁，以保证贴合质量，通过研磨清洗完成基片表面清洁是目前行业内出现的最新的清洁方式，该种清洁方式通过研磨盘贴紧基片表面后，研磨盘沿基片表面旋转摩擦以达到将基片表面残留物体研磨脱离的作用，可将牢固粘附在基片表面的残留物研磨脱离基片，具备较好的清洁效果；在基片自动化研磨工艺实现过程中，存在以下技术难点亟待解决：1、基片的自动上料、中转、位置校正及清洁问题；2、研磨前如有异物残留在基片表面，在研磨压力下异物刮伤磨损基片表面的问题；3、研磨后，基片表面研磨过程中产生的脱离基片的残留物的自动清洁问题；4、基片研磨工艺耗时较长，而整体的自动化研磨贴合产线对物料上下料速率有整线要求，采用单一的研磨工站无法保证整线产能要求，实际研磨线体与整体的研磨贴合产线之间衔接时存在物料上下料转换问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种实现了物料自动上料运输过程中同步完成检测、清洁及导向校正，具备物料一转二上料及二转一下料功能，通过双研磨工位有效提升了产能，集成有研磨后毛刷物理清洁、液体冲洗、二流体清洁及烘干功能，有效保证了清洁质量的自动化研磨清洗线。

本发明采取的技术方案如下：一种自动化研磨清洗线，包括上料装置、第一研磨清洁段、第二研磨清洁段、二转一分料段及清洗烘干下料段，其中，上述第一研磨清洁段及第二研磨清洁段依次设置，形成研磨清洁部分；上料装置及二转一分料段分别设置于研磨清洁部分的前后两端；上述清洗烘干下料段设置于二转一分料段的后侧；

上述上料装置包括上料传输机构、上料清洁机构及检测机构，上料传输机构通过间隔设置并可转动的上料辊为传输部件，驱动物料直线运动；上述检测机构跨设在上料传输机构的上方，上料辊上传输的物料移动至检测机构下方时，检测机构拍照检测物料；上述上料清洁机构设置在上料传输机构的两侧上料清洁机构沿竖直方向升降运动靠近上料辊，并与上料辊之间形成间隙空间，检测后的物料直线运动经过间隙空间时完成表面初步清洁；

上述第一研磨清洁段包括下研磨平台及上研磨机构，第二研磨清洁段包括上研磨平台及下研磨机构，其中，下研磨平台及下研磨机构依次设置于机架上，上研磨机构及上研磨平台分别悬设于机架上设置机罩上；初步清洁后的物料搬移至下研磨平台上，经上研磨机构研磨清洁上表面后，上研磨平台吸取物料并搬移至下研磨机构处，对物料的下表面进行研磨清洁；

上述二转一分料段包括分料传输机构及分料机械手，分料传输机构设置于下研磨机构的后侧，下表面研磨完成后的二片物料搬移至分料传输机构上；设置于分料传输机构上方的分料机械手将物料单片取出并搬移至清洗烘干下料段；