[发明专利]曝光装置及光罩清洁方法

说明书

本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种曝光装置及光罩清洁方法。所述曝光装置包括：支撑台，用于承载光罩；检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。本发明可以提高所述光罩检测的效率以及准确率；同时，避免了将光罩取出、在曝光机台外部进行清洁的繁琐操作以及二次污染的风险，提高了光罩清洁的效率，从而相应提高了曝光装置的机台产能。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种曝光装置及光罩清洁方法。

背景技术

在动态随机存储器(Dynamic Random Access Memory，DRAM)等半导体器件的制造工艺中，光刻是至关重要的步骤。在光刻工艺中，光罩的洁净度是确保光刻质量的重要因素。当时，在现有的曝光机台中，并没有专门的清洁系统来清洁光罩表面，导致在曝光机台中的光罩探测系统(Integrated Reticle Inspection System，IRIS)检测到光罩表面存在颗粒物之后，必须要将光罩从曝光机台内取出，在曝光机台外部对光罩进行清洁。然而，这种在曝光机台外部清洁光罩的方式，至少存在如下两个方面的缺陷：一方面，将光罩从曝光机台内部取出、在曝光机台外部清洁之后再送入曝光机台的过程极大的耗费时间，降低了机台产能；另一方面，光罩在曝光机台外部清洁之后送入曝光机台的过程中，很可能遭受二次污染，导致需要再次清洁，操作相当繁琐。

因此，如何提高光罩的清洁效率，从而提高曝光机台的产能，并改善光刻质量，是目前亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明提供一种曝光装置及光罩清洁方法，用于解决现有技术中曝光机台不能对光罩进行清洁的问题，以提高光罩清洁的效率。

为了解决上述问题，本发明提供了一种曝光装置，包括：

支撑台，用于承载光罩；

检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；

清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。

可选的，所述检测组件包括：

发射器，位于所述支撑台上方，用于向所述光罩表面发射探测信号；

接收器，位于所述支撑台上方，用于接收自所述光罩表面传回的探测信号；

处理器，连接所述发射器和所述接收器，用于根据所述发射器发射的探测信号和所述接收器接收到的探测信号获取所述光罩表面的异物信息。

可选的，所述发射器同时发射的探测信号覆盖所述光罩的整个表面。

可选的，所述异物信息包括所述异物的数量、所述异物在所述光罩表面的位置以及所述异物的尺寸。

可选的，所述清洁组件包括：真空吸附部件，用于真空吸附所述光罩表面的所述异物。

可选的，所述真空吸附部件根据所述异物信息自动调节真空度。

为了解决上述问题，本发明还提供了一种光罩清洁方法，包括如下步骤：

传输光罩至曝光装置内部；

发射检测信号检测所述光罩表面的异物信息；

判断所述光罩表面是否存在异物，若是，则于所述曝光装置内除去所述光罩表面的异物。

可选的，发射检测信号检测所述光罩表面的异物信息的具体步骤包括：

发射探测信号至所述光罩表面；

接收自所述光罩表面传回的探测信号；