[发明专利]曝光装置及光罩清洁方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其特征在于，包括：

支撑台，用于承载光罩；

检测组件，用于检测所述光罩表面的异物信息；

清洁组件，所述清洁组件连接所述检测组件，用于根据所述检测组件获取的所述异物信息定向除去所述光罩表面的异物。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述检测组件包括：

发射器，位于所述支撑台上方，用于向所述光罩表面发射探测信号；

接收器，位于所述支撑台上方，用于接收自所述光罩表面传回的探测信号；

处理器，连接所述发射器和所述接收器，用于根据所述发射器发射的探测信号和所述接收器接收到的探测信号获取所述光罩表面的异物信息。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其特征在于，所述发射器同时发射的探测信号覆盖所述光罩的整个表面。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述异物信息包括所述异物的数量、所述异物在所述光罩表面的位置以及所述异物的尺寸。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其特征在于，所述清洁组件包括：

真空吸附部件，用于真空吸附所述光罩表面的所述异物。

6.根据权利要求5所述的曝光装置，其特征在于，所述真空吸附部件根据所述异物信息自动调节真空度。

7.一种光罩清洁方法，其特征在于，包括如下步骤：

传输光罩至曝光装置内部；

发射检测信号检测所述光罩表面的异物信息；

判断所述光罩表面是否存在异物，若是，则于所述曝光装置内除去所述光罩表面的异物。

8.根据权利要求7所述的光罩清洁方法，其特征在于，发射检测信号检测所述光罩表面的异物信息的具体步骤包括：

发射探测信号至所述光罩表面；

接收自所述光罩表面传回的探测信号；

根据发射的探测信号和接收到的探测信号获取所述光罩表面的异物信息。

9.根据权利要求8所述的光罩清洁方法，其特征在于，发射探测信号至所述光罩表面的具体步骤包括：

同时发射多探测信号至所述光罩表面，使得所述探测信号覆盖所述光罩的整个表面。

10.根据权利要求9所述的光罩清洁方法，其特征在于，于所述曝光装置内除去所述光罩表面的异物的具体步骤包括：

提供真空吸附部件；

根据所述异物信息驱动所述真空吸附部件朝向所述光罩表面的异物运动，定向移除所述光罩表面的异物。