[发明专利]一种具有支撑架的空气桥及制作方法

权利要求书

1.一种具有支撑架的空气桥的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

在衬底上涂布第一光阻；

图形化第一光阻，第一光阻定义支撑架的形状，第一光阻的剖面为三角形，形成直的或者弯曲的三棱柱的形状；

在第一光阻上制作介电层，介电层覆盖第一光阻和衬底，介电层作为支撑架，形成剖面为三角形的支撑架，支撑架与衬底面上连接的部分作为支撑部；

覆盖第二光阻，显影去除在第一光阻上面的第二光阻，保留第一光阻外侧的第二光阻；

在第一光阻上面的区域制作空气桥金属，空气桥金属在介电层上，空气桥金属和介电层组成具有支撑架的空气桥，空气桥金属沿支撑架上沿横跨至穿导孔或其他接点，所述空气桥金属为横向走向，支撑架的三角形剖面为纵向走向；支撑架的数量为多个，底层线路置于两个支撑架之间，空气桥金属沿支撑架上沿横跨过底层线路；

去除第二光阻和第一光阻。

2.根据权利要求1所述的一种具有支撑架的空气桥的制作方法，其特征在于，在图形化第一光阻，第一光阻定义支撑架的形状后，还包括步骤：

干法蚀刻第一光阻，使第一光阻的剖面形成三角形的形状，第一光阻的底面在衬底的面上。

3.根据权利要求2所述的一种具有支撑架的空气桥的制作方法，其特征在于，所述第一光阻的侧壁与底面之间的角度为40度以上。

4.根据权利要求1所述的一种具有支撑架的空气桥的制作方法，其特征在于，在图形化第一光阻时，还包括步骤：

控制曝光焦距在0～2微米，使曝光后第一光阻的厚度为0～2微米。

5.根据权利要求1所述的一种具有支撑架的空气桥的制作方法，其特征在于，在衬底上覆盖第一光阻前，还包括步骤：

在衬底上覆盖六甲基二硅胺烷。

6.根据权利要求1所述的一种具有支撑架的空气桥的制作方法，其特征在于，还包括步骤：

涂布光阻，显影光阻后，保留支撑架上的光阻，以光阻为掩模蚀刻支撑架外的介电层。

7.一种具有支撑架的空气桥，其特征在于，所述具有支撑架的空气桥由权利要求1至6任意一项所述的一种具有支撑架的空气桥的制作方法制得。

8.一种具有支撑架的空气桥，其特征在于，所述具有支撑架的空气桥由支撑架和空气桥金属组成，所述支撑架具有与衬底连接的支撑部，空气桥金属在支撑架上，支撑架的剖面为三角形，空气桥金属沿支撑架上沿横跨至穿导孔或其他接点，所述空气桥金属为横向走向，支撑架的三角形剖面为纵向走向；支撑架的数量为多个，底层线路置于两个支撑架之间，空气桥金属沿支撑架上沿横跨过底层线路。