[发明专利]光刻设备、确定方法和制造物品的方法

说明书

本申请涉及光刻设备、确定方法和制造物品的方法，提供了一种能够在较短时间段中检测原版的异常保持的光刻设备。该光刻设备被配置为通过使用原版在基板上形成图案，并且该光刻设备包括：被配置为保持其上形成有第一标记的原版的保持单元；被配置为拾取第一标记的图像的测量单元；和控制单元，该控制单元被配置为：在测量单元的焦点位置被调整到基准位置的情况下使得测量单元获得在由保持单元保持的原版上的第一标记的图像；并且在作为第一标记的图像的对比度的第一对比度相对于基准对比度的变化超出可允许范围时，确定原版正在被保持单元异常保持。

背景技术

本公开涉及光刻设备、确定方法和制造物品的方法。

技术领域

在半导体器件、微机电系统(MEMS)、平板显示器或其他此类物品的制造中，作为光刻设备的示例的曝光设备将绘制在原版(母版(reticle)或掩模(mask))上的图案转印到基板(晶圆(wafer)或面板)上。由于要在基板上形成的图案变得越来越细，因此需要以更高的精度对准要转印到基板上的图案。

导致对准精度降低的原因包括夹在原版和保持该原版的原版台之间的异物。当原版被保持在原版台上而在原版和原版台之间夹有异物时，要转印到基板上的图案可能会错位。鉴于此，需要曝光设备包括能够检测到原版已经在由于所夹的异物或其他此类原因引起的异常状态下被保持在原版台上的装置。

在日本专利申请公开No.2004-186313中公开了一种曝光设备，该曝光设备被配置为通过使用测量单元测量原版的高度来确定异物的存在或不存在。在日本专利申请公开No.2004-186313中，原版的高度是从在改变测量单元的焦距的同时反复执行测量时所呈现的对比度变化中获得的。

在日本专利申请公开No.2004-186313中，原版的高度是通过在改变测量单元的焦距的同时反复执行焦点测量而测量的，因此会有需要大量时间来确定异物的存在或不存在的问题。

发明内容

因此，本发明的目标是提供能够在较短时间段中检测原版的异常保持的光刻设备、确定方法和制造物品的方法。

为了解决上述问题，根据本发明的至少一个实施例，提供有被配置为通过使用原版在基板上形成图案的光刻设备，该光刻设备包括：保持单元，该保持单元被配置为保持形成有第一标记的原版；测量单元，该测量单元被配置为拾取第一标记的图像；和控制单元，该控制单元被配置为：在测量单元的焦点位置被调整到基准位置的情况下使得测量单元获得由保持单元所保持的原版上的第一标记的图像；并且在作为第一标记的图像的对比度的第一对比度相对于基准对比度的变化超出可允许范围时，确定原版正在由保持单元异常地保持。

参考附图，本发明的进一步特征将从示例性实施例的以下描述中变得明显。

附图说明

图1是用于说明曝光设备的视图。

图2A是用于说明测量单元、原版台和保持在原版台上的原版的视图。

图2B是用于说明原版上的原版标记、原版台上的基准标记和基板台上的吸附垫(suction pad)的视图。

图3是用于示出焦点位置和标记的图像的对比度之间的关系的图形。

图4是用于说明根据本发明的第一实施例的用于原版的异常保持的确定方法的流程图。

图5是用于说明在原版已经被异常保持时出现的原版和原版台的视图。

图6是用于示出第一实施例中标记的图像的对比度变化的图形。

图7是用于说明第一实施例中的用户界面的简图。

图8是用于说明根据本发明的第二实施例的用于原版的异常保持的确定方法的流程图。

图9是用于示出由于测量单元的位置变化而引起的标记的图像的对比度变化的图形。