[发明专利]光刻设备、确定方法和制造物品的方法

权利要求书

1.一种被配置为通过使用原版在基板上形成图案的光刻设备，其特征在于，所述光刻设备包括：

保持单元，所述保持单元包括第二标记并且被配置为保持所述原版，第一标记形成于所述原版上；

测量单元，所述测量单元被配置为拾取所述第一标记的图像和所述第二标记的图像；和

控制单元，所述控制单元被配置为：

确定在多个原版中包括的第一原版上形成的第一标记与所述第二标记之间的基准位置；

使所述测量单元在所述测量单元的焦点位置被调整到所述基准位置的状态下获得在所述第一原版上形成的第一标记的第一图像；

获得在所述第一原版上形成的第一标记的第一图像的基准对比度；

在所述多个原版中包括的第二原版由所述保持单元保持的情况下，使所述测量单元在所述测量单元的焦点位置被调整到所述基准位置的状态下获得在所述第二原版上形成的第一标记的第二图像；

获得在所述第二原版上形成的第一标记的第二图像的第一对比度；

确定所述第一对比度相对于所述基准对比度的变化是否超出可允许范围；以及

在所述变化超出可允许范围的情况下，确定所述第二原版正在由所述保持单元异常保持。

2.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述第一对比度的变化包括所述第一对比度和所述基准对比度之间的比率和差值中的一者。

3.根据权利要求1所述的光刻设备，

其中，所述保持单元被配置为保持所述原版，以使得从所述第一标记到所述测量单元的光的光路和从所述第二标记到所述测量单元的光的光路相互重叠。

4.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述第一标记和所述第二标记具有相同的形状。

5.根据权利要求1所述的光刻设备，其中，所述控制单元被配置为：在所述第一对比度相对于所述第二对比度的所述变化超出所述可允许范围时确定所述原版正在被所述保持单元异常保持，所述第一对比度已经基于指示所述测量单元的焦点位置和所述第一对比度之间的关系的第一对比度信息被校正，所述第二对比度已经基于指示所述测量单元的焦点位置和所述第二对比度之间的关系的第二对比度信息被校正。

6.一种被配置为通过使用原版在基板上形成图案的光刻设备，其特征在于，所述光刻设备包括：

保持单元，所述保持单元被配置为保持所述原版，第一标记形成于所述原版上，

投影光学系统，所述投影光学系统被配置为投影所述第一标记的图像；

可移动的台，第二标记形成于所述台上；

测量单元，所述测量单元被配置为测量穿过所述第二标记透射的光的光量；和

控制单元，所述控制单元被配置为：

在所述第二标记被定位在基准位置的情况下，获得穿过所述第二标记透射的光的基准光量，其中在多个原版中包括的第一原版上形成的第一标记已经被投影在所述第二标记上，所述基准位置是在所述第一原版上形成的第一标记的第一图像被形成的焦点位置；

在所述多个原版中包括的第二原版由所述保持单元保持的情况下，使所述测量单元在所述第二标记被所述台定位在基准位置的状态下测量穿过所述第二标记透射的光的第一光量，在所述第二原版上形成的第一标记的第二图像已经被投影在所述第二标记上；

确定所述第一光量相对于所述基准光量的变化是否超出可允许范围；以及

在所述变化超出可允许范围的情况下，确定所述第二原版正在被所述保持单元异常保持。

7.根据权利要求6所述的光刻设备，其中，所述光量的变化包括所测量的光量和所述基准光量之间的比率和差值中的一者。

8.根据权利要求6所述的光刻设备，其中，所述控制单元被配置为：基于由所述测量单元在所述台正在沿着所述投影光学系统的光轴方向被移动的状态下测量的光量来获得所述基准位置。

9.根据权利要求6所述的光刻设备，其中，所述第一标记和所述第二标记具有相同的形状。