[发明专利]堆叠元件在审
| 申请号: | 201911166129.9 | 申请日: | 2019-11-25 |
| 公开(公告)号: | CN111244052A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
| 发明(设计)人: | 张丰愿;刘钦洲;钱清河;黄博祥;曾嘉辉 | 申请(专利权)人: | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L23/48 | 分类号: | H01L23/48;H01L25/18 |
| 代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国 |
| 地址: | 中国台湾新竹市*** | 国省代码: | 台湾;71 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 堆叠 元件 | ||
【权利要求书】:
1.一种堆叠元件,其特征在于,包含:
一第一晶粒;
一第二晶粒,堆叠在该第一晶粒上,其中该第二晶粒包含:
一第一穿透硅通孔(TSV);以及
一第一电路;以及
一第三晶粒,堆叠在该第二晶粒上,其中该第三晶粒包含:
一第二TSV;以及
一第二电路,
其中该第一TSV及该第二TSV线性共同延伸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911166129.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:差动装置
- 下一篇:掩膜组件和用于制造该掩膜组件的方法





