[发明专利]一种超疏水膜及其制备方法、对MDI废盐水进行提浓与回用的方法

权利要求书

1.一种对MDI废盐水进行提浓与回用的方法，其特征在于，包括如下步骤：

1)将MDI废盐水进行两相分离，产生有机相与盐水相；

2)将步骤1)分离得到的盐水相依次进行苯胺萃取、再沸蒸馏和盐水深度处理脱除TOC的工艺处理过程，处理后的盐水作为氯碱装置的原料；

3)将步骤1)分离得到的有机相进行洗涤处理，得到洗涤后的有机相和水洗废水；将所述水洗废水与萃取剂接触进行膜萃取处理；将经过膜萃取处理后的水洗废水输送至生化单元处理，之后进入中水回用系统实现回用；

所述膜萃取处理的过程中，待处理的所述水洗废水通过超疏水膜进行膜萃取处理；

所述超疏水膜具有多孔结构，且表面粗糙；

所述超疏水膜的膜厚度为0.5～1.5mm；

所述超疏水膜的孔隙率为10％～20％；

所述超疏水膜的静态水接触角为150°～160°；

所述超疏水膜的制备方法，包括如下步骤：

i、制备仿生模板：取环氧树脂胶粘剂均匀涂覆在玻璃基质上，并在位于玻璃基质的环氧树脂胶粘剂上均匀铺满微米级碳化硅颗粒；将其进行固化处理和焙烘后，冷却并清除环氧树脂胶粘剂表面未固着的碳化硅颗粒，形成类似荷叶效应的仿生模板；

ii、制备具有粗糙表面的氟硅橡胶膜：将液体氟硅橡胶、固化剂和溶剂混合均匀后配成铸膜液，然后将所得铸膜液均匀涂覆在所述仿生模板的表面；将其先在室温下固化成膜，然后加热干燥、剥离，得到具有粗糙表面的氟硅橡胶膜；

iii、等离子体表面处理：将所述氟硅橡胶膜进行等离子表面处理，得到膜孔隙率增大的氟硅橡胶膜；

iv、将所得膜孔隙率增大的氟硅橡胶膜浸入表面修饰液中，进行表面修饰处理；之后再进行热固化处理，得到所述超疏水膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述超疏水膜的制备方法的步骤i中，

所述微米级碳化硅颗粒的粒径为0.5-15μm；

所述环氧树脂胶粘剂为中温固化胶，其包含：环氧树脂和固化剂a。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述环氧树脂选自双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、双酚S型环氧树脂和双酚P型环氧树脂中的一种或多种；所述固化剂a选自双氰胺、二乙基咪唑和甲基四氰苯酐中的一种或多种。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述微米级碳化硅颗粒的粒径为2-8μm。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述超疏水膜的制备方法的步骤i中，

所述固化处理的条件包括：固化温度为90-110℃，固化时间为50-80min；所述焙烘的条件包括：焙烘温度为150-170℃，焙烘时间为8-15min。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述超疏水膜的制备方法的步骤ii中，

所述固化剂选自乙烯基三胺、二丙烯三胺和三乙烯四胺中的至少一种；和/或

所述溶剂为丙酮和/或乙醇。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述超疏水膜的制备方法的步骤ii中，

所述液体氟硅橡胶：固化剂：溶剂的质量比为100:(5-8):(15-30)；

室温下固化成膜的时间为10-18h；

所述加热干燥的条件包括：温度为70-95℃，时间为4-6h。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述超疏水膜的制备方法的步骤iii中，所述等离子表面处理的条件包括：射频功率为10-150W，气体流量为0-1000cc/min，真空度为60-600Pa；每次的膜处理时间为1-5min，间歇处理次数为2-5次。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述超疏水膜的制备方法的步骤iv中，

所述表面修饰液包括：低表面能物质、醇类溶剂、交联剂和催化剂。