[发明专利]可变点阵全息隐形图案成型方法

说明书

本发明公开了一种可变点阵全息隐形图案成型方法，包括：设计微结构图案；将微结构图案绘制成光栅点阵；光栅点阵送至铂金浮雕机，铂金浮雕机将光栅点阵参数解读并传送至激光器，激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版上；将蚀刻过的光刻胶版经由显影液显影出图案以成为光刻母片；根据印刷载体，光刻母片将图案转印至定位转移膜、电化铝、复合纸或薄膜上。本方法改变传统的机械切割技术，自主设计微结构图案，再将微结构图案绘制成光栅点阵，依次通过铂金浮雕机和激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版，并形成光刻母片以将图案转印至各类产品上，使得用户在产品表观上看不到图形内容，达到隐形防伪的目的。

技术领域

本发明涉及全息点阵光刻技术，特别涉及可变点阵全息隐形图案成型方法。

背景技术

传统的全息点阵光刻技术，主要是利用镭射点阵光斑在光刻胶版雕刻，先利用传统机械切割技术将在金属遮罩片上切出所需要的形状和大小，如方形、圆形等，激光透过金属遮罩片形成方形或圆形光斑并在光刻胶版雕刻，最终转印到产品上。现有的点阵光刻技术往往光斑点单一，图案不可变，导致光斑点无法有过多的变化。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明提出一种可变点阵全息隐形图案成型方法，其能够根据自主设计图案制作具有隐形防伪功能的产品。

根据本发明实施例的可变点阵全息隐形图案成型方法，包括以下步骤：步骤一、设计微结构图案；步骤二、将微结构图案绘制成光栅点阵；步骤三、光栅点阵送至铂金浮雕机，铂金浮雕机将光栅点阵参数解读并传送至激光器，激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版上；步骤四、将蚀刻过的光刻胶版经由显影液显影出图案以成为光刻母片；步骤五、根据印刷载体，光刻母片将图案转印至定位转移膜、电化铝、复合纸或薄膜上。

至少具有如下有益效果：本方法改变传统的机械切割技术，自主设计微结构图案，再将微结构图案绘制成光栅点阵，依次通过铂金浮雕机和激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版，并形成光刻母片以将图案转印至各类产品上，使得用户在产品表观上看不到图形内容，达到隐形防伪的目的。

根据本发明的一些实施例，所述微结构图案包括图形和/或文字。

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，本发明的描述中，除非另有明确的限定，设计、绘制、蚀刻、转印等词语应做广义理解，所属技术领域技术人员可以结合技术方案的具体内容合理确定上述词语在本发明中的具体含义。

本发明提供一种可变点阵全息隐形图案成型方法，包括以下步骤：

步骤一、设计微结构图案；

步骤二、将微结构图案绘制成光栅点阵；

步骤三、光栅点阵送至铂金浮雕机，铂金浮雕机将光栅点阵参数解读并传送至激光器，激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版上；

步骤四、将蚀刻过的光刻胶版经由显影液显影出图案以成为光刻母片；

步骤五、根据印刷载体，光刻母片将图案转印至定位转移膜、电化铝、复合纸或薄膜上。

本方法改变传统的机械切割技术，自主设计微结构图案，有的图案会跟随设定的角度而一起旋转，而有的图案不会跟随设定的角度而一起旋转，再将微结构图案绘制成光栅点阵，依次通过铂金浮雕机和激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版，并形成光刻母片以将图案转印至各类产品上，使得用户在产品表观上看不到图形内容，达到隐形防伪的目的。

此外，微结构图案包括图形和/或文字，不局限于常规的方形或圆形光斑，每一个企业都可以有自己专有的微结构图案，对应有自己的防伪标识。

上面对本发明实施例作了详细说明，但是本发明不限于上述实施例，在所述技术领域普通技术人员所具备的知识范围内，还可以在不脱离本发明宗旨的前提下作出各种变化。