[发明专利]可变点阵全息隐形图案成型方法在审
| 申请号： | 201911155213.0 | 申请日： | 2019-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN111300963A | 公开（公告）日： | 2020-06-19 |
| 发明（设计）人： | 陈维斌;陈敏辉;刘振江 | 申请（专利权）人： | 珠海市瑞明科技有限公司 |
| 主分类号： | B41C1/05 | 分类号： | B41C1/05;B41C1/00;B41M3/14 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 张志辉 |
| 地址： | 519000 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 可变 点阵 全息 隐形 图案 成型 方法 | ||
【权利要求书】：
1.可变点阵全息隐形图案成型方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、设计微结构图案；
步骤二、将微结构图案绘制成光栅点阵；
步骤三、光栅点阵送至铂金浮雕机，铂金浮雕机将光栅点阵参数解读并传送至激光器，激光器将光栅点阵激光蚀刻在光刻胶版上；
步骤四、将蚀刻过的光刻胶版经由显影液显影出图案以成为光刻母片；
步骤五、根据印刷载体，光刻母片将图案转印至定位转移膜、电化铝、复合纸或薄膜上。
2.根据权利要求1所述的可变点阵全息隐形图案成型方法，其特征在于，所述微结构图案包括图形和/或文字。
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