[发明专利]一种高熔点AKD型表面施胶剂的制备方法有效
申请号: | 201911152869.7 | 申请日: | 2019-11-22 |
公开(公告)号: | CN110878490B | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
发明(设计)人: | 何辉;董超;吴恒;李庆秋;李回陵 | 申请(专利权)人: | 岳阳林纸股份有限公司 |
主分类号: | D21H21/16 | 分类号: | D21H21/16 |
代理公司: | 长沙智德知识产权代理事务所(普通合伙) 43207 | 代理人: | 黄静 |
地址: | 414002 湖南*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 熔点 akd 表面 施胶剂 制备 方法 | ||
1.一种高熔点AKD型表面施胶剂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1、制备淀粉乳化剂:以质量百分比计,在反应釜中加入30-35%去离子水,在搅拌状态下加入18-20%木薯氧化淀粉,继续搅拌20-30min后升温至40-45℃,再加入5-6%液碱,保温20-30min,继续升温至60-65℃,加入7-9%阳离子醚化剂,保温20-30min,继续升温至73-76℃,保温3-3.5h,停止搅拌静止3-4h后加入20-30%水、5-10%冰醋酸调节pH值至3.5-5.5,降温至60-65℃后加入1-2%分散剂N,搅拌20-30min后开始升温至92-95℃,保温50-60min,再继续降温至60-65℃得到淀粉乳化剂;
步骤2、制备成品:以质量百分比计,向剪切罐中加入25-30%去离子水、0.03-0.06%分散剂N,升温后加入上述步骤1得到的5-10%淀粉乳化剂、1-3%高分子乳化剂、0.1-0.2%氧氯化锆,再加入10-24%蜡粉溶液,启动剪切机,再采用均质机将剪切后的原料均质两遍,然后加入30-35%水、13-15%无铁硫酸铝,最后加入0.01-0.03%杀菌剂,得到高熔点为60-63℃的AKD型表面施胶剂;所述蜡粉溶液的制备过程为:将AKD蜡粉投入反应釜中,升温至80-85℃后保温至蜡粉完全融化,得到蜡粉溶液备用;所述AKD蜡粉型号为1895即C18含量占95%。
2.根据权利要求1所述的一种高熔点AKD型表面施胶剂的制备方法,其特征在于,所述步骤1中加入水和冰醋酸调节pH值至3.5。
3.根据权利要求1所述的一种高熔点AKD型表面施胶剂的制备方法,其特征在于,所述步骤2中剪切机的剪切速度为1400-1500r/min,剪切时间为15-20min。
4.根据权利要求1所述的一种高熔点AKD型表面施胶剂的制备方法,其特征在于,所述步骤2中剪切机的剪切速度为1500r/min,剪切时间为20min。
5.根据权利要求1所述的一种高熔点AKD型表面施胶剂的制备方法,其特征在于,所述步骤2中升温至60-70℃。
6.根据权利要求1所述的一种高熔点AKD型表面施胶剂的制备方法,其特征在于,所述步骤2均质处理后还要经板换快速冷却至25℃以下。
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