[发明专利]浅覆盖层区矿产勘查大比例尺地质填图方法在审

专利信息
申请号: 201911149048.8 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN110853118A 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 吴文飞;胡加昆;李星;倪尔建;肖静珊;朱政坤;陈子聪 申请(专利权)人: 云南冶金资源股份有限公司
主分类号: G06T11/20 分类号: G06T11/20;G06T11/40;G01C15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 650599 云南省*** 国省代码: 云南;53
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摘要:
搜索关键词: 覆盖层 矿产 勘查 比例尺 地质 方法
【说明书】:

发明公开了浅覆盖层区矿产勘查大比例尺地质填图方法,所述方法包括以下步骤:根据所需填图的比例尺,按行业规范进行布线测量,选取合理的路线间距;在各路线上按行业规范分别选取点开挖探坑,探坑之间的间距依据实测剖面的比例尺确定;通过探坑揭露出的基岩残积层、基岩层中的地质现象按照行业规范进行地质描述、记录,然后根据地质描述、记录对地质体归类划分,完成上述工作后回填探坑;对多条路线上的多个探坑完成数据采集后,所采集的地质点按坐标标记在地形图上。本发明采用挖探坑的方法,揭开覆盖层,根据揭露的基岩露头、残积层、坡积层、风化层等进行地质填图,解决了基岩露头少或无基岩露头区域的地质填图问题。

技术领域

本发明涉及矿产勘查技术领域,具体为浅覆盖层区矿产勘查大比例尺地质填图方法。

背景技术

地质填图是指在野外实地观察研究的基础上,按一定比例尺将各种地质体和地质现象填绘在地理底图上而构成地质图的工作过程,目前,地质填图工作在基岩露头比较好的区域完成得质量高,有效的指导了矿区的地质研究工作,而在基岩露头少或无基岩露头的区域会形成地质填图的丢点或无控制的观察点,导致形成的地质图对矿产勘查无太大指导意义。

矿产勘查地质填图工作中,在基岩露头少或无基岩露头的区域会有几种选择:1、丢点或无控制的观察点,导致成图的质量不高;2、采用剥土工程揭露基岩,对生态破坏大,周期长且成本高;3、采用槽探揭露基岩,对生态破坏大,获取的地质点少,周期长且成本高;4、采用浅钻获取基岩岩心地质点,成本高且工作效率低;5、地质填图工作、土壤地球化学工作分别开展,耗费人力物力和工作周期,因此有必要对现有技术进行改进,以解决上述问题。

发明内容

本发明的目的在于提供浅覆盖层区矿产勘查大比例尺地质填图方法,以解决上述背景技术中提出的现有技术难以高质量完成基岩露头少或无基岩露头区域的地质填图的问题。

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:浅覆盖层区矿产勘查大比例尺地质填图方法,所述方法包括以下步骤:

S1:根据所需填图的比例尺,按行业规范进行布线测量,选取合理的路线间距;

S2:在各路线上按行业规范分别选取点开挖探坑,探坑之间的间距依据实测剖面的比例尺确定;

S3:通过探坑揭露出的基岩残积层、基岩层中的地质现象按照行业规范进行地质描述、记录,然后根据地质描述、记录对地质体归类划分,完成上述工作后回填探坑;

S4:对多条路线上的多个探坑完成数据采集后,所采集的地质点按坐标标记在地形图上,根据地质点中的描述,对地质体进行界线划分;

S5:对界线进行修正,沿路线方向选取两不同地质体发生变化的两探坑,在两探坑间布设点探槽,通过点探槽揭露出的基岩残积层、基岩层中的地质现象按照行业规范进行地质描述、记录,然后根据地质描述、记录对地质体归类划分,完成上述工作后回填点探槽,通过点探槽控制地质体的界线,并按行业规范完成地质体的产状测量及地质描述,并在图上做修正界线。

优选的,所述探坑包括探坑口、探坑壁和探坑底,所述探坑从浅到深依次揭露腐殖土层、基岩全风化层、基岩残积层和基岩层。

优选的,所述探坑深度根据揭露的实际情况最深开挖1.5m,所述探坑规格设置为地表长1m×宽1m,往深部长×宽尺寸呈倒梯形体收缩。

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