[发明专利]太阳能电池的测试方法有效

专利信息
申请号: 201911147740.7 申请日: 2019-11-21
公开(公告)号: CN112825302B 公开(公告)日: 2022-07-19
发明(设计)人: 安欣睿;陈海燕;李硕;张临安;邓伟伟 申请(专利权)人: 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66;G01R31/389
代理公司: 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 代理人: 胡彭年
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 太阳能电池 测试 方法
【权利要求书】:

1.一种太阳能电池的测试方法,其特征在于:

制备测试样品,所述测试样品包括硅衬底、位于硅衬底一侧表面的隧穿层、设置在所述隧穿层背离硅衬底一侧的掺杂多晶硅层、设置在所述掺杂多晶硅层上的若干金属电极,所述金属电极的长度设置为W,宽度为L,若干所述金属电极平行设置且相邻所述金属电极的间距设置为d;

根据测试样品的结构,确定相邻金属电极之间的电阻R的算式如下:

其中,R1为所述硅衬底的体电阻,R2为所述隧穿层的隧穿电阻;R3为所述掺杂多晶硅层的薄层电阻,R4为金属电极的接触电阻;

测试获取N组不同相邻金属电极之间的电阻R,N≥3;

建立方程组,计算得到隧穿电阻R2、薄层电阻R3、接触电阻R4,所述隧穿层的隧穿电阻率ρ1为R2*L*W,所述掺杂多晶硅层的方阻R为R3/d,所述金属电极的接触电阻率ρ2为R4*L*W。

2.根据权利要求1所述的测试方法,其特征在于:

将所述隧穿电阻率ρ1、方阻R、接触电阻率ρ2代入电阻R的算式,计算得到不同间距d所对应的电阻R值,拟合绘制相邻金属电极的电阻R与间距d的关系曲线;

测试得到间距为d0的相邻金属电极的电阻R0,将电阻R0与所述关系曲线中间距d0所对应的电阻R值相比对,并根据比对结果对所述隧穿电阻率ρ1、方阻R、接触电阻率ρ2进行修正。

3.根据权利要求2所述的测试方法,其特征在于:根据所述关系曲线的延长线在横向坐标轴上的截距得到迁移长度LT,当所述金属电极宽度L小于迁移长度LT时,所述隧穿层的隧穿电阻率ρ1为R2*L*W,所述金属电极的接触电阻率ρ2为R4*L*W;

当所述金属电极宽度L大于等于迁移长度LT时,所述隧穿电阻率ρ1为R2*LT*W,所述接触电阻率ρ2为R4*LT*W。

4.根据权利要求1所述的测试方法,其特征在于:所述“测试获取N组不同相邻金属电极之间的电阻R”步骤中,选取至少两组间距小于0.2cm的相邻金属电极进行测试,得到相应的电阻R值。

5.根据权利要求1所述的测试方法,其特征在于:所述测试样品中任意两个相邻所述金属电极的间距各不相同。

6.根据权利要求1所述的测试方法,其特征在于:所述测试样品中部分相邻所述金属电极的间距相同;

所述“测试获取N组不同相邻金属电极之间的电阻R”过程,包括测试获取至少两组间距相同的相邻金属电极的电阻R,再取均值得到相应的间距所对应的电阻R'。

7.根据权利要求1所述的测试方法,其特征在于:所述测试样品的两侧表面均层叠设置有所述隧穿层与掺杂多晶硅层,相邻所述金属电极之间的电阻R的算式变换为:

8.根据权利要求1所述的测试方法,其特征在于:测试获取N组不同相邻金属电极之间的电阻R,N≥4;再计算得到体电阻R1、隧穿电阻R2、薄层电阻R3、接触电阻R4。

9.根据权利要求1所述的测试方法,其特征在于:获取硅衬底的体电阻率ρ,计算得到所述体电阻R1。

10.根据权利要求1所述的测试方法,其特征在于:所述“制备测试样品”还包括在所述掺杂多晶硅层背离所述隧穿层的一侧绝缘介质膜,所述金属电极穿过所述绝缘介质膜并与所述掺杂多晶硅层相接触。

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