[发明专利]激光晶化装置的监控系统

权利要求书

1.一种激光晶化装置的监控系统，其中，包括：

工作台，用于支撑基板；

激光生成部，向所述基板提供激光束；

散射光束检测部，检测在所述基板上被散射的所述激光束的散射光束；及，

控制部，接收并存储被检测的所述散射光束的强度相关的数据，基于所述数据来修正所述激光生成部提供的所述激光束的强度。

2.根据权利要求1所述的激光晶化装置的监控系统，其中，

所述基板上形成有非晶硅薄膜，

所述非晶硅薄膜被所述激光束晶化而形成多晶硅薄膜。

3.根据权利要求1所述的激光晶化装置的监控系统，其中，

所述控制部基于被存储的所述数据来修正作为所述激光束的强度的激光能量，或生成调整用于形成所述激光束的光学系统的反馈信号，并提供给所述激光生成部或所述光学系统。

4.根据权利要求1所述的激光晶化装置的监控系统，其中，

所述控制部基于被存储的所述数据，来判断对作业中的所述基板的晶化程度是否合适，基于此向所述工作台提供所述基板的返工与否相关的返工信息。

5.根据权利要求1所述的激光晶化装置的监控系统，其中，

所述激光束以具有入射角的形式入射至所述基板上，并射出为具有反射角的反射光束及具有散射角的散射光束，

所述散射光束的所述散射角大于所述反射角。

6.根据权利要求1所述的激光晶化装置的监控系统，其中，

所述基板设置于由第一方向及垂直于所述第一方向的第二方向构成的平面上，所述工作台使所述基板向所述第一方向移动，

所述激光束为向所述第二方向的长四角形形态的直线束。

7.根据权利要求6所述的激光晶化装置的监控系统，其中，

所述散射光束检测部沿着所述第二方向设置有多个，以沿着所述第二方向检测出在多个位置的散射光束，

所述控制部存储沿着所述第二方向的多个位置的所述散射光束的强度相关的数据。

8.根据权利要求1所述的激光晶化装置的监控系统，其中，还包括：

腔室，所述腔室在所述激光束通过的位置形成有退火窗，所述腔室是密封的盒状；

光束切割装置，设置于所述腔室内，切断所述激光束的末端；及，

束流收集器，设置于所述腔室内，吸收并消散在所述基板上被反射的激光束；

镜子，设置于所述腔室内，反射在所述基板上散射的所述散射光束；及，

透镜，从所述镜子反射的所述散射光束通过所述透镜，将所述散射光束引导至所述散射光束检测部。

9.根据权利要求8所述的激光晶化装置的监控系统，其中，还包括：

对齐激光生成部，设置于所述腔室内，生成对齐激光；

对齐透镜，所述对齐激光生成部生成的所述对齐激光通过所述对齐透镜；及，

对齐镜子，反射通过所述对齐透镜的所述对齐激光，

从所述对齐镜子反射的所述对齐激光从所述基板及所述镜子依次被反射，通过所述透镜而入射至所述散射光束检测部。

10.根据权利要求1所述的激光晶化装置的监控系统，其中，

还包括变换部，所述变换部对被所述散射光束检测部检测出的所述散射光束的强度进行模拟化或数字化，

所述控制部从所述变换部接收被模拟化或被数字化的所述散射光束的强度相关的数据。