[发明专利]一种晶圆旋转承载结构及其处理装置

权利要求书

1.一种晶圆旋转承载结构，其特征在于，包括内旋环、外固定环和伸缩轴，所述内旋环与所述外固定环转动连接，且位于所述外固定环的内侧，所述伸缩轴沿所述外固定环圆心方向设置，所述外固定环具有外卡槽和导轨，所述外卡槽位于所述外固定环的上侧，所述导轨位于所述外固定环的内侧。

2.如权利要求1所述的一种晶圆旋转承载结构，其特征在于，所述内旋环包括转动轴承和内旋环本体，所述转动轴承与所述外固定环转动连接，且位于所述导轨的内侧，所述内旋环还具有内卡槽，所述内卡槽位于所述内旋环本体的上侧。

3.如权利要求2所述的一种晶圆旋转承载结构，其特征在于，所述内卡槽与所述外卡槽相互适配。

4.如权利要求2所述的一种晶圆旋转承载结构，其特征在于，所述内旋环本体的上侧具有呈圆周均匀分布的真空孔。

5.如权利要求1所述的一种晶圆旋转承载结构，其特征在于，所述伸缩轴包括真空吸盘、轴体和底座，所述真空吸盘与所述轴体固定连接，且位于所述轴体的上侧，所述轴体与所述底座滑动连接，且位于所述底座的上侧。

6.如权利要求5所述的一种晶圆旋转承载结构，其特征在于，所述真空吸盘具有均匀布置的吸附孔。

7.如权利要求6所述的一种晶圆旋转承载结构，其特征在于，所述轴体的内部具有与所述吸附孔连通的真空管道。

8.如权利要求5所述的一种晶圆旋转承载结构，其特征在于，所述底座的内侧具有滑轨。

9.一种处理装置，包括晶圆旋转承载结构，其特征在于，还包括反应腔室、传输组件和处理组件，所述反应腔室与所述底座固定连接，所述传输组件位于所述反应腔室的上侧，所述处理组件位于所述反应腔室的上侧。