[发明专利]镀膜生产线的真空系统

权利要求书

1.镀膜生产线的真空系统，所述镀膜生产线包括多个依次连接的箱体(1)，各箱体(1)内为腔室，待镀膜的基片在各所述腔室内运行，待镀膜的基片在每个独立的腔室内完成相应工艺，各箱体(1)之间设有门阀，以将各个箱体(1)对应的腔室分隔开来，其特征在于，所述真空系统，包括至少一泵组(8)、主抽气管道(7)、至少一泵组管道(9)和多组抽真空组件，每个箱体(1)设有一组抽真空组件，各组抽真空组件并联连接后通过主抽气管道(7)和泵组管道(9)连接泵组(8)。

2.根据权利要求1所述的镀膜生产线的真空系统，其特征在于：抽真空组件包括至少一个分子泵(3)、一个分子泵管道(4)、耦合器(5)和波纹管(6)。

3.据权利要求2所述的镀膜生产线的真空系统，其特征在于：每组抽真空组件包括两个分子泵(3)，分子泵(3)安装在箱体(1)的壁面上，分子泵(3)穿过所述箱体(1)的壁面，分子泵(3)的出口位于箱体(1)内的腔室内，分子泵(3)的另一端位于箱体(1)的外部。

4.据权利要求3所述的镀膜生产线的真空系统，其特征在于：分子泵(3)和所述壁面之间设置密封装置。

5.据权利要求3所述的镀膜生产线的真空系统，其特征在于：每个箱体(1)的两个分子泵(3)间隔布置在箱体(1)壁面上，两个分子泵(3)通过分子泵管道(4)连接，分子泵管道(4)垂直于水平面，且分子泵管道(4)位于箱体(1)的外部。

6.据权利要求5所述的镀膜生产线的真空系统，其特征在于：分子泵管道(4)的下端依次连接耦合器(5)和波纹管(6)。

7.据权利要求5所述的镀膜生产线的真空系统，其特征在于：分子泵(3)上设有切断腔室和分子泵连通的关断阀。

8.据权利要求2所述的镀膜生产线的真空系统，其特征在于：所述腔室内设有监测真空度的真空计。

9.据权利要求2所述的镀膜生产线的真空系统，其特征在于：多个波纹管(6)并联连接至主抽气管道(7)，主抽气管道(7)位于底座上，底座固定于地面上。

10.据权利要求6所述的镀膜生产线的真空系统，其特征在于：设有两根主抽气管道(7)，所有的分子泵(3)、分子泵管道(4)、耦合器(5)和波纹管(6)均匀分布在箱体(1)连接形成的镀膜生产线的两侧，且镀膜生产线的两侧各布置一根主抽气管道(7)，每侧的波纹管(6)连接至本侧的主抽气管道(7)上。